詳細摘要： RCA清洗機是半導體制造中用于晶圓表面潔凈處理的核心設備，基于標準RCA工藝（SC-1硫酸/雙氧水去有機物、SC-2氫氟酸去氧化層），通過化學濕法結合兆聲波或噴...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-20 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
蘇州芯矽電子科技有限公司
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詳細摘要： RCA清洗機是半導體制造中用于晶圓表面潔凈處理的核心設備，基于標準RCA工藝（SC-1硫酸/雙氧水去有機物、SC-2氫氟酸去氧化層），通過化學濕法結合兆聲波或噴...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-20 在線留言
詳細摘要： 酸腐蝕清洗機是一種用于金屬、半導體及精密部件表面處理的濕法化學設備，通過酸性溶液（如硫酸、鹽酸、硝酸或混酸）去除氧化層、銹蝕、焊后殘留及微觀污染物。其核心優勢包...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-20 在線留言
詳細摘要： 晶圓清洗設備是半導體制造中的關鍵工藝設備，用于去除晶圓表面的顆粒、有機物、金屬污染及氧化層等污染物，確保后續制程的良率與可靠性。其技術涵蓋濕法化學清洗（如硫酸/...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-20 在線留言
詳細摘要： 去膠清洗機是半導體、光電等領域關鍵設備，用于去除光刻膠、聚合物等殘留物。其技術涵蓋化學濕法清洗（如硫酸/雙氧水配方）、超聲波空化剝離及等離子干法去膠，可針對晶圓...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-20 在線留言
詳細摘要： 片盒清洗機是半導體制造中用于清潔晶圓承載盒（如FOUP）的專用設備，旨在去除片盒表面的顆粒、有機物及工藝殘留物，確保晶圓傳輸過程中的潔凈度。其核心功能包括自動化...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-20 在線留言
詳細摘要： BOE濕法清洗機是半導體制造中用于晶圓表面氧化層刻蝕與清潔的關鍵設備，通過化學濕法工藝實現高效潔凈處理。廣泛應用于光刻、刻蝕后清洗及TSV三維封裝前處理，適配硅...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-19 在線留言
詳細摘要： 半導體爐管清洗機是用于去除石英/陶瓷爐管表面化學殘留、顆粒及氧化層的專用設備，核心目標為恢復爐管潔凈度以保證擴散、氧化等工藝的穩定性。其采用高純度去離子水（DI...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-19 在線留言
詳細摘要： 芯片清洗機是半導體制造中用于去除晶圓表面顆粒、有機物及化學殘留的關鍵設備，確保納米級潔凈度（Class 10級）。采用高純度去離子水（DI水，電阻率≥18.2M...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-19 在線留言
詳細摘要： 最終清洗機是半導體制程中確保晶圓/爐管表面納米級潔凈的關鍵設備，專為去除化學殘留、顆粒及有機物設計。采用高純度去離子水配合兆聲波震蕩，實現無損傷清洗；集成離心干...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-19 在線留言
詳細摘要： 槽式清洗機是一種用于批量清洗物品的自動化設備，廣泛應用于半導體、電子、光學等領域。它通過將待清洗物品放入盛有特定化學試劑的槽中，利用超聲波在液體中的空化作用產生...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-13 在線留言
詳細摘要： 全自動BOE蝕刻機是半導體制造中用于去除晶圓氧化層（如SiO?）的關鍵設備，通過氫氟酸（HF）與氟化銨（NH?F）混合液（Buffered Oxide Etch...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細摘要： SPM腐蝕清洗機是半導體制造中去除晶圓表面有機物及金屬污染的核心設備，通過硫酸與雙氧水混合液（SPM）的強氧化性實現高效腐蝕清洗。其關鍵功能包括光刻膠剝離、金屬...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細摘要： 單晶圓濕法清洗機是半導體制造中用于單片晶圓表面清潔的關鍵設備，通過化學溶液（如SC-1、DHF等）結合兆聲波、超聲波等物理技術，高效去除有機物、金屬污染及顆粒殘...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細摘要： 半導體硅片清洗機是芯片制造中的關鍵設備，用于去除晶圓表面污染物（如顆粒、有機物、金屬殘留），確保高精度工藝良率。其核心采用濕法化學清洗（如RCA工藝）結合兆聲波...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細摘要： 單晶圓濕法清洗設備，專為高精度芯片制造設計。它采用濕法工藝，能精準去除晶圓表面雜質與污染物。具備高清洗均勻性，確保晶圓各區域潔凈度一致。自動化程度高，操作便捷，...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-12 在線留言
詳細摘要： 晶圓單片清洗機是半導體制造中用于單片晶圓表面污染物（顆粒、有機物、金屬離子等）去除的高精密設備，通過逐片獨立處理避免交叉污染，適用于制程節點。其核心技術包括伯努...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-08 在線留言
詳細摘要： Wafer清洗機是半導體制造中用于去除晶圓表面污染物（顆粒、有機物、金屬雜質等）的關鍵設備，通過物理、化學或機械原理實現高潔凈度清洗。其主要技術包括超聲波清洗（...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-08 在線留言
詳細摘要： 半導體濕法設備是晶圓制造、封裝及器件加工中的關鍵工藝設備，通過化學腐蝕、電化學處理、超聲波空化、流體沖洗等技術，實現納米級潔凈度與微觀結構調控。其核心在于精準控...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-07 在線留言
詳細摘要： 邊拋后清洗機是半導體、光學及精密制造關鍵設備，通過濕/干法去除拋光殘留。核心流程含化學去氧化、兆聲波剝離、超純水沖洗及真空干燥，在Class 10環境下完成。支...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-07 在線留言
詳細摘要： SPM全自動超聲清洗機是半導體制造中用于高效清潔精密部件的關鍵設備，通過超聲波空化效應結合化學溶劑（如硫酸、過氧化氫等）去除硅片、光罩、石英件等表面的微粒、金屬...
產品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-06 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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