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boe濕法清洗機

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更新時間：2025-05-19 17:22:57瀏覽次數：39次

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產品簡介

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BOE濕法清洗機是半導體制造中用于晶圓表面氧化層刻蝕與清潔的關鍵設備，通過化學濕法工藝實現高效潔凈處理。廣泛應用于光刻、刻蝕后清洗及TSV三維封裝前處理，適配硅基、化合物半導體（GaN/SiC）等場景，顯著提升芯片良率與產線穩定性，是14nm以下制程的關鍵配套設備。

詳細介紹

BOE濕法清洗機是半導體制造中用于晶圓表面氧化層刻蝕與清潔的核心設備，通過化學濕法工藝實現高效、精準的潔凈處理。其核心功能包括：

氧化層刻蝕與污染物去除：

采用BOE（緩沖氧化蝕刻液，如HF/NH?F）等化學溶液，精準去除光刻膠殘留、氧化硅（SiO?）及金屬污染，兼容4-12英寸晶圓，適用于制程（如EUV光刻后清潔）。

多工藝協同清洗：

集成SC-1（NH?OH/H?O?）、DHF（稀氫氟酸）等濕法配方，結合兆聲波（1-3MHz）震蕩增強顆粒剝離效率，顆粒去除率＞99.9%（檢測限0.1μm），表面粗糙度Ra＜0.3nm（AFM檢測）。

自動化與溫控系統：

PLC全自動調節清洗參數（時間、溫度±0.5℃、流速），配備機械臂傳輸（定位精度±0.1mm），避免磕碰損傷；支持DI水（電阻率≥18.2MΩ·cm）循環噴淋與IPA（異丙醇）干燥，防止水痕殘留。

環保與節能設計：

藥液過濾系統（UF/MF膜技術）延長化學品使用壽命，廢液分類中和處理，符合RoHS標準；熱交換模塊回收余熱，降低能耗30%以上。

該設備廣泛應用于光刻、刻蝕后清洗及TSV三維封裝前處理，適配硅基、化合物半導體（GaN/SiC）等場景，顯著提升芯片良率與產線穩定性，是14nm以下制程的關鍵配套設備。

關鍵詞：芯片



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