半導(dǎo)體爐管清洗機是用于去除石英（Quartz）、陶瓷爐管表面化學(xué)殘留物、顆粒污染及氧化層的專用設(shè)備，主要服務(wù)于擴散爐、氧化爐等高溫工藝后的清潔維護。爐管潔凈度直接影響半導(dǎo)體器件的良率與性能，本設(shè)備通過物理（兆聲波、等離子體）與化學(xué)（濕法酸液）協(xié)同清洗技術(shù)，確保爐管內(nèi)壁達到納米級（Class 10級）潔凈標準，延長爐管使用壽命至數(shù)千次循環(huán)。
核心技術(shù)參數(shù)
清洗工藝
去離子水（DI水）：電阻率≥18.2MΩ·cm，用于基礎(chǔ)沖洗；
化學(xué)液：稀HF（1%-5%）、HNO?/HF混合液或SC-1溶液（NH?OH/H?O?），針對金屬雜質(zhì)與氧化物；
等離子體（選配）：Ar/O?混合氣體，功率100-1000W，用于有機物（如碳沉積）去除。
介質(zhì)選擇：
兆聲波：頻率1-3MHz，功率密度5-15W/cm2，精準剝離＞0.1μm顆粒，避免機械損傷。
干燥技術(shù)
熱風(fēng)干燥：溫度可控（80-120℃），流速可調(diào)，防止爐管熱應(yīng)力開裂；
真空干燥（選配）：腔內(nèi)真空度≤10Pa，露點控制≤-40℃，適用于高精度需求。
兼容性
爐管尺寸：支持直徑50-300mm（4-12英寸晶圓對應(yīng)爐管）；
長度范圍：兼容1.2-2.5米長爐管，適應(yīng)不同擴散/氧化設(shè)備需求。
自動化控制
傳輸系統(tǒng)：機械臂或滾軸傳送，定位精度±0.1mm，避免磕碰；
工藝配方：預(yù)設(shè)程序（如高溫爐管冷卻后清洗、酸液循環(huán)次數(shù)）可定制化。
設(shè)備結(jié)構(gòu)與功能模塊
清洗腔體
材質(zhì)：316L不銹鋼+PTFE內(nèi)襯，耐酸堿腐蝕，配備氟橡膠密封圈；
噴淋系統(tǒng)：多向噴嘴+兆聲波換能器，流量0.2-0.8MPa，覆蓋爐管內(nèi)壁盲區(qū)。
化學(xué)液處理模塊
加熱系統(tǒng)：溫控范圍20-80℃（±0.5℃），加速化學(xué)反應(yīng)；
過濾循環(huán)：UF/MF膜過濾（孔徑0.1μm），減少化學(xué)品消耗，廢液分類中和。
等離子體模塊（選配）
電極設(shè)計：電容耦合（CCP）放電，均勻分布血漿體，清除碳沉積；
氣體流量控制：MFC質(zhì)量流量計，精度±1% F.S.，支持多步工藝切換。
檢測與監(jiān)控
顆粒檢測：激光計數(shù)儀（檢測限0.1μm），實時監(jiān)控清洗后潔凈度；
表面分析：內(nèi)置SEM/AFM接口，支持爐管內(nèi)壁粗糙度（Ra＜0.3nm）檢測。
安全與環(huán)保設(shè)計
安全防護
泄漏檢測：紅外傳感器+自動泄壓閥，防止酸液/DI水泄漏；
緊急停機：一鍵中斷清洗流程，保護爐管與設(shè)備；
權(quán)限管理：三級用戶權(quán)限（操作員/工程師/管理員），避免誤操作。
節(jié)能與環(huán)保
熱回收系統(tǒng)：利用清洗液余熱預(yù)熱DI水，降低能耗；
廢液處理：化學(xué)液循環(huán)過濾+中和排放，符合RoHS/REACH標準。
應(yīng)用優(yōu)勢
高效潔凈：顆粒去除率＞99.9%，表面粗糙度Ra＜0.3nm（AFM檢測），滿足制程需求；
低損傷：非接觸式兆聲波+柔和干燥技術(shù)，避免爐管熱應(yīng)力開裂或表面劃傷；
兼容：支持石英/陶瓷爐管、高溫處理后（＞1200℃）爐管冷卻清洗；
智能化：AI算法優(yōu)化清洗參數(shù)（如酸液濃度、時間），基于歷史數(shù)據(jù)降低工藝成本。
