ZML10A是一款創新的桌面級無掩膜光刻設備，專為高效、精準的微納加工需求設計。該設備采用高功率、高均勻度的LED光源，并結合的DLP技術，實現了黃光或綠光引導曝光功能，真正做到“所見即所得”，極大提升了操作便捷性和工藝可控性。它的光路結構和高精度直線電機位移臺確保了曝光精度和重復定位能力，同時配備CCD相機逐場自動對焦系統，進一步優化了成像質量和工藝穩定性。設備支持電動物鏡切換和激光主動對焦功能，能夠靈活應對不同應用場景的需求。其緊湊的桌面小型化設計不僅節省空間，還便于在實驗室或生產環境中部署。此外，ZML10A配備了直觀易用的軟件界面，大幅降低了操作門檻，即使是初學者也能快速上手。無論是超材料結構、電極圖案還是微流控芯片等復雜微納結構的制備，ZML10A都能提供可靠的支持，是科研工作者和工業用戶的理想選擇。
• 技術特點
▲ 桌面小型化
▲ 高功率、高均勻度LED刻寫光源
▲ 黃光/綠光引導曝光，所見即所得
▲ CCD相機逐場圖像自動對焦
▲ 高精度直線電機位移臺
▲ 易于操作的軟件界面
• 光路遠離結構圖
• 主要指標
| 關鍵技術指標 | ||
| 紫外光源中心波長 | 405nm | |
| 曝光均勻度 | 90% | |
| 最小特征線寬 | 0.5um | |
| 單次寫場曝光面積 | 0.6*0.4mm（@0.5um） | |
| 刻寫速率 | 3mm^2/min(@0.5um) | |
| 配置 | 基礎版 | 專業版 |
| 光源 | 強光LED：405nm | |
| DMD芯片 | DLP6500 | |
| 單場曝光面積 | 0.6*0.4mm（@0.5um）、1.2*0.8mm（@0.8um） 2.4*1.6mm（@1.5um）、12*8mm（@8um） | |
| 相機 | 大靶面顯微相機（支持尺寸測量） | |
| 套刻精度 | 1um | 0.7um |
| 刻寫速度 | 3mm2/min(@0.5um) | 20mm2/min(@0.5um) |
| 運動臺 | 高精度直線電機（重復定位精度±0.5um）調平機構、手動旋轉臺 | 高精度直線電機（重復定位精度±0.5um）調平機構、電動旋轉臺 |
| 物鏡轉換器 | 手動物鏡切換 | 電動物鏡切換 |
| 對焦模組 | CCD圖像自動對焦 | 激光主動對焦 |
| 支持硅片尺寸 | 4inch | 8inch |
應用案例
