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廣電計量檢測集團股份有限公司

德國SENTECH 化學氣相沉積(預真空室)

參考價 10
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱北京中科復華科技有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號SI 500 PPD
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間2025/5/16 8:34:46
  • 訪問次數97
產品標簽:

化學氣相沉積PECVD

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北京中科復華科技有限公司是一家致力于為半導體領域和微納米科學領域提供綜合性解決方案,為全國各大高校、科研院所及企事業單位提供的半導體設備儀器和微納米科學儀器,擁有一支經驗豐富、技術過硬的技術團隊。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務。未來公司將不斷和引進在微納米科學領域中起重要作用的新儀器和新產品,同時也與全國各所的大學、學院和科研院所建立了良好的合作關系,致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作, 為中國的教育與科研事業在廣范圍、高層次上提供服務。




電子束曝光系統,刻蝕設備,鍍膜設備,光刻機,半導體工藝設備
產地 進口 儀器種類 等離子體表面處理儀
SI 500 PPD是電容平板式PECVD等離子沉積設備,主要用于SiO2,SiOxNy,SiNy,a-Si,SiC薄膜的沉積 。適用于2“--8“ 樣片的薄膜沉積。
德國SENTECH 化學氣相沉積(預真空室) 產品信息

工藝靈活性

PECVD沉積設備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標準的化學氣相沉積工藝。

預真空室

SI 500 PPD的特色是預真空室和干泵裝置,用于無油、高產量和潔凈的化學氣相沉積過程。

SENTECH控制軟件

強大的用戶界面友好軟件包括模擬圖形用戶界面,參數窗口,工藝處方編輯窗口,數據記錄和用戶管理。


SI 500 PPD代表了的等離子體增強化學氣相沉積設備,用于介質膜、非晶硅、碳化硅和其他材料的沉積。它基于平板電容耦合等離子體源,預真空室,溫控襯底電極,可選的低頻射頻源、全自動控制的無油真空系統、的SENTECH控制軟件,采用遠程現場總線技術,以及用戶友好的通用界面來操作SI 500 PPD。

SI 500 PPD等離子沉積設備,可以加工從到200毫米直徑的晶片到裝載在載片器上的零件。單晶片預真空室保證穩定的工藝條件,并實現簡易切換的過程。

SI 500 PPD等離子增強沉積設備用于在從室溫到350℃的溫度范圍內沉積SiO2、SiNx、SiONx和a-Si薄膜。通過液態或氣態前驅體,SI 500 PPD可以為TEOS, SiC和其它材料的沉積提供解決方案。SI 500 PPD特別適用于化學氣相沉積用于刻蝕掩膜,鈍化膜,波導及其他的介質膜和非晶硅。

SENTECH提供不同級別的自動化程度,從真空片盒載片到一個工藝腔室或多六個工藝模塊端口,可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統,目標是高靈活性或高產量。SI 500 PPD也可用作多腔沉積系統中的一個工藝模塊。


SI 500 PPD:

  • 等離子化學氣相沉積設備

  • 帶預真空室

  • 適用于大到200mm的晶片

  • 襯底溫度從室溫到350?°C

  • 可選低頻射頻降低應力

  • 用于沉積TEOS的液態前驅體

  • 干泵組



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