下載E+H電子差壓變送器FMD71和FMD72的技術說明書

【資料簡介】

    E+H電子差壓變送器FMD71和FMD72是差壓系統，由兩個傳感器和一臺變送器組成，用于帶壓罐或蒸餾塔/蒸發器中液體的液位、體積或質量測量。一個傳感器用于靜壓測量(高壓)，另一個傳感器用于頂部壓力測量(低壓)?；谏鲜鰞蓚€數字量壓力值，變送器計算得出液位值(電子差壓)。電子差壓測量系統消除了傳統差壓測量中出現的問題。

   E+H電子差壓變送器FMD71和FMD72的優勢：干式測量單元Ceraphire*抗真空、耐腐蝕和耐磨損；消除了傳統機械問題，具有更高的過程適用性和可靠性；采用新型電子差壓系統結構和設計，zui大限度地降低了安全風險；由于縮短了安裝時間、維護時間、停機時間，并減少了備件需求，zui大限度地降低了使用成本；多變量液位測量：基于HART通信，測量同一系統的差壓、頂部壓力和傳感器溫度；通過HART診斷不間斷標識整個系統的健康狀況；高重復性和長期穩定性。

    E+H電子差壓變送器FMD71和FMD72的測量原理：

    E+H電子差壓變送器FMD71，帶陶瓷過程隔離膜片(Ceraphire®)
陶瓷傳感器是干式傳感器(非充油傳感器)。過程壓力直接作用在結構堅固的陶瓷過程隔離膜片上，導致膜片發生形變。陶瓷基板電極和膜片電極可以檢測出與壓力成比例變化的電容變化。陶瓷過程隔離膜片的厚度確定了測量范圍。
優勢：確保zui大抗過載能力為40 倍標稱壓力；采用99.9 %超純的陶瓷(Ceraphire®，詳情請參考www.endress.com/ceraphire)：*的化學穩定性，可與Alloy C 合金媲美、低松弛度、高機械穩定性；適用于真空場合；的表面光潔度，Ra ≤ 0.3 μm (11.8 μin)。

1 通氣孔(表壓傳感器)    2 陶瓷基板    3 電極      4 陶瓷過程隔離膜片

    E+H電子差壓變送器FMD72，帶金屬過程隔離膜片
過程壓力使得每個傳感器的金屬過程隔離膜片發生形變，整體傳感器內部的填充液將壓力傳輸至電阻橋路上(半導體技術)。測量與壓力相關的橋路輸出電壓，并進行后續計算。
優勢：zui高過程壓力為40 bar (600 psi)；高長期穩定性；確?？惯^載能力可達標稱壓力的10 倍；與帶毛細管的隔膜密封系統相比，熱效應顯著降低。

1 硅膜片，基片      2 惠斯頓電橋      3 測量通道，充滿填充液    4 金屬過程隔離膜片

    E+H電子差壓變送器FMD71和FMD72的應用領域：用于帶壓罐或蒸餾塔/蒸發器中液體的液位、體積或質量測量。過程連接：螺紋、法蘭、齊平安裝的衛生型連接。溫度–25...+150°C (–13...+302°F)，可選350°C (662°F)。測量范圍100mbar...40bar (1.5...600psi)。測量精度單個傳感器的zui高精度為±0.05%，系統的zui高精度為±0.07%；ATEX、FM、CSA、IECEx、NACE MRO175、EN10204-3.1、EHEDG、3A認證。