蘇州芯矽電子科技有限公司
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詳細(xì)摘要： EPI零部件清洗機(jī)是半導(dǎo)體制造中用于清潔外延生長(zhǎng)設(shè)備關(guān)鍵部件的專(zhuān)用設(shè)備。其通過(guò)超聲波、化學(xué)或等離子清洗技術(shù)，高效去除零部件表面的微粒、金屬污染及殘留物，確保外延...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-06 在線留言
詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)光罩清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工藝設(shè)備，用于高效去除光罩表面污染物。其通過(guò)超聲波、化學(xué)清洗或等離子體技術(shù)，精準(zhǔn)清除光刻膠殘留、顆粒及金屬雜質(zhì)，確保光罩圖...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-06 在線留言
詳細(xì)摘要： 高溫磷酸刻蝕機(jī)是半導(dǎo)體加工關(guān)鍵設(shè)備。它利用高溫磷酸溶液，對(duì)硅片等材料進(jìn)行精準(zhǔn)刻蝕。能精確控制刻蝕速率與深度，去除表面雜質(zhì)、平整表面，為后續(xù)工藝奠定良好基礎(chǔ)。具備...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-06 在線留言
詳細(xì)摘要： 硅片最終清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造關(guān)鍵工藝設(shè)備，用于去除硅片表面雜質(zhì)、顆粒及殘留物。它通過(guò)化學(xué)或物理清洗方式，確保硅片表面潔凈度達(dá)標(biāo)準(zhǔn)，以滿(mǎn)足芯片制造的嚴(yán)苛要求。設(shè)備...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-06 在線留言
詳細(xì)摘要： 硅酸表面蝕刻機(jī)是半導(dǎo)體與微電子制造中用于單晶硅、多晶硅材料表面精密加工的核心設(shè)備，通過(guò)化學(xué)濕法蝕刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)微結(jié)構(gòu)成型。其核心原理基于HF/HNO?混合酸體系（如...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-06 在線留言
詳細(xì)摘要： 具備高度均勻的蝕刻能力，可精確控制孔的深度、直徑等參數(shù)。其蝕刻過(guò)程穩(wěn)定，能保證孔壁的光滑度和垂直度。通過(guò)流體力學(xué)設(shè)計(jì)和控制系統(tǒng)，適應(yīng)不同工藝需求，確保蝕刻效果的...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-03-07 在線留言
詳細(xì)摘要： CMP預(yù)清洗機(jī)是一種用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的專(zhuān)業(yè)設(shè)備。在化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝前，它發(fā)揮著關(guān)鍵作用。其能有效去除半導(dǎo)體硅片、晶圓等表面的污垢、雜質(zhì)及殘留物，為后...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-03-07 在線留言
詳細(xì)摘要： 濕法刻蝕設(shè)備是半導(dǎo)體制造關(guān)鍵設(shè)備，用化學(xué)溶液精確刻蝕材料。其通常由不銹鋼、石英或高純度聚丙烯等耐腐蝕材質(zhì)制成，確保在酸堿環(huán)境下穩(wěn)定運(yùn)行。設(shè)備能精準(zhǔn)控制刻蝕速率和...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-03-07 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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