蘇州芯矽電子科技有限公司
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詳細(xì)摘要： 全自動(dòng)光罩清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵工藝設(shè)備，用于高效去除光罩表面污染物。其通過(guò)超聲波、化學(xué)清洗或等離子體技術(shù)，精準(zhǔn)清除光刻膠殘留、顆粒及金屬雜質(zhì)，確保光罩圖...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-06 在線留言
詳細(xì)摘要： 硅片最終清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造關(guān)鍵工藝設(shè)備，用于去除硅片表面雜質(zhì)、顆粒及殘留物。它通過(guò)化學(xué)或物理清洗方式，確保硅片表面潔凈度達(dá)標(biāo)準(zhǔn)，以滿足芯片制造的嚴(yán)苛要求。設(shè)備...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-05-06 在線留言
詳細(xì)摘要： 具備高度均勻的蝕刻能力，可精確控制孔的深度、直徑等參數(shù)。其蝕刻過(guò)程穩(wěn)定，能保證孔壁的光滑度和垂直度。通過(guò)流體力學(xué)設(shè)計(jì)和控制系統(tǒng)，適應(yīng)不同工藝需求，確保蝕刻效果的...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-03-07 在線留言
詳細(xì)摘要： CMP預(yù)清洗機(jī)是一種用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的專業(yè)設(shè)備。在化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝前，它發(fā)揮著關(guān)鍵作用。其能有效去除半導(dǎo)體硅片、晶圓等表面的污垢、雜質(zhì)及殘留物，為后...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：蘇州市更新時(shí)間：2025-03-07 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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