電子工業(yè)對水質(zhì)的要求：

    微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。

應用場合：

    半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；超純材料和超純化學試劑；實驗室和中試車間；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏；高品質(zhì)顯像管、熒光粉生產(chǎn)；半導體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗。

典型電子級超純水制備工藝：

    預處理┄反滲透┄水箱┄陽床┄陰床┄混合床┄純水箱┄純水泵┄紫外線殺菌器┄精制混床┄微孔膜過濾器┄用水對象

    預處理┄一級反滲透┄pH調(diào)節(jié)裝置┄中間水箱┄二級反滲透┄純水箱┄紫外線殺菌器┄微孔膜過濾器┄用水對象

    預處理┄二級反滲透┄中間水箱┄水泵┄EDI裝置┄純水箱┄純水泵┄紫外線殺菌器┄微孔膜過濾器┄用水對象   新工藝

預處理┄二級反滲透┄中間水箱┄水泵┄EDI裝置┄純水箱┄純水泵┄紫外線殺菌器┄拋光混床┄TOC分解器┄微孔膜過濾器┄用水對象  工藝

二級反滲透+混合離子交換器高純水制取工藝流程示意圖