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上海沃家真空設備科技有限公司
利用真空狀態下弧光放電原理的離子鍍膜技術,是*發展起來的真空鍍膜方式,具有沉積速率高、結合牢固、設備運行穩定等優點,我們在傳統多弧的基礎上,對靶結構、磁鐵、冷卻等進行了嚴格的改進和設計,提高了離化率、細化顆粒,膜層和基材結合更加牢固、膜層更加致密,硬度耐磨性顯著提高,厚度可以控制在0.5微米—5微米之間,是普通裝飾鍍和工具鍍膜的*機型。
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利用真空狀態下弧光放電原理的離子鍍膜技術,是*發展起來的真空鍍膜方式,具有沉積速率高、結合牢固、設備運行穩定等優點,我們在傳統多弧的基礎上,對靶結構、磁鐵、冷卻等進行了嚴格的改進和設計,提高了離化率、細化顆粒,膜層和基材結合更加牢固、膜層更加致密,硬度耐磨性顯著提高,厚度可以控制在0.5微米—5微米之間,是普通裝飾鍍和工具鍍膜的*機型。 |
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▲真空室箱體:主要規格有800*1000mm、1000*1200mm、1200*1500mm、1500*1600mm、1800*1950mm,并可以根據客戶具體要求設計非標產品。 ▲夾具方式:采用公自轉行星式齒輪結構,工件速度在1-15轉/分鐘可調,掛具有6軸、8軸、10軸、12軸等各種規格,適合不同大小尺寸的裝飾、工具鍍膜。 ▲控制氣體方式:采用質量流量計控制,進氣穩定,反應速度快,可以配加自動壓強控制。 ▲靶:采用整體制造技術,結構合理而簡單,維護更換靶材方便,具有自動/手動引弧功能。 ▲電源:配置直流脈沖電源(電壓、占空比可調節),逆變電弧電源。 ▲抽氣系統:采用國產品牌機械泵、羅茨泵、擴散泵,根據其真空室大小確定合理型號。也可以根據客戶的需要配備分子泵或者進口泵等。 ▲抽真空參數:從大氣抽至5*10 ̄3Pa≤15min極限真空度8*10 ̄4Pa控制系統可以選用手動控制;計算機控制,觸摸屏面板控制。 |
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