PhableR具備以低成本光刻系統曝光高分辨率周期性結構的能力。它類似于傳統的紫外曝光機，將涂有光刻膠的晶圓接近掩模版，然后用一束紫外深紫外光照射。由于Eulitha的突破性PHABLE曝光技術，分辨率不再受到不希望出現的衍射效應的限制。如亞微米周期線性光柵和二維圖案等結構(如六方和四方晶格曝光)，均具有高均勻性和保真度。

PhableR 100 DUV光刻機是一款針對科研和研發的基礎手動機臺。對于納米周期性結構，不需要復雜的工藝過程或經驗，就可以制作大面積，均勻性和重復性好的一維、二維光柵結構。有關設備和服務的一些特點：

1. 設備操作簡單

2. 與前后道工藝和配套設備兼容性性好

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應用廣泛，包括:

• 學術(R&D)

• XR (AR / VR /MR)

• 光電子學

• 光學元件

• 生物/醫學

• 色彩/視覺效果

• 光刻技術服務