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成都南光機器有限公司
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JC系列用途及特點UseandFeatures●磁控濺射鍍膜設備主要用于在基片上鍍制金屬、半導體、電介質、多元素化合物或混和物
| 型號 Model | 應用特點 Application field | 裝片工作臺特點 Features of film loading bench | 基片尺寸 Size of substrate | 產量/每小時 1μ鋁層厚度 Output per hour 1μm aluminum coating thickness | 厚度 均勻性 thickness homogeneity | 真空系統 Vacuum system |
| JC400-1/D | 適合科研、生產硅片及砷化鎵片 Scientific research,production of silicon film and gallium arsenide film | 全自動盒對盒送片，濺射源數量可按工藝調整，低塵粒 Full automatic box-to-box film advance;quantity of sputtering source to be adiusted as per the process;low in density of dust particles | 4～6″ | 40 | ±5％ | 低溫泵加 分子泵系統 Cryogenic pump system added with molecular pump |
| JC500-1/D | 適用于圓形片狀工件 Circular sheet work-piece | 工件可進行公轉，水平裝片 Revolution of work-piece available；horizontal film loading | 4″ | 16 | ±8％ | 分子泵系統 Turbomolecular pump system |
| JC500-5/D | 適用于矩形片狀工件 Rectangular sheet work-piecevv | 工件可進行公轉，垂直裝片 Revolution of work-piece available；vertical film loading | 150x150mm | 10 | ±8％ | 分子泵系統 Turbomolecular pump system |
| JC600-1/D | 適用于矩形片狀工件 Rectangular sheet work-piecevv | 工件架為十邊拄形，垂直裝片 work-piece holder in decagonal column shape；vertical film loading | 280x100mm | 20 | ±8％ | 擴散泵系統 Diffusion pump system |
| JC600-2/D | 適合科研、生產砷化鎵基片線寬亞微米級 Scientific research,production of gallium arsenide film with line width at submicron level | 工件可進行自傳、公轉 水平裝片 Rotation and revolution of work-piece available；horizontal film loading | 3″ | 24 | ±5％ | 低溫泵系統 Cryogenic pump system |
| JC650-1/D | 適用于矩形或圓形片狀工件 Rectangular or circular sheet work-piece | 工件可進行公轉，水平裝片 revolution of work-piece available；horizontal film loading | Φ100mm | 10 | ±5％ | 分子泵系統 Turbomolecular pump system |
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