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白光干涉系列

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更新時間：2025-05-08 09:08:43瀏覽次數：36次

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西安昂科光電有限公司

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產品簡介

WLI-200干涉儀基于白光干涉原理，采用非接觸式的測量方法，用于超高精度的平面和曲面輪廓、面形誤差、缺陷形態、波紋度及表面粗糙度的測量，也可分析截面、刻線凹槽深度和臺階高度等，具有高測量精度、操作便捷、功能齊全、測量參數涵蓋面廣等優點，是目前在3D檢測領域精度的測量儀器之一

詳細介紹

WLI-200干涉儀基于白光干涉原理，采用非接觸式的測量方法，用于超高精度的平面和曲面輪廓、面形誤差、缺陷形態、波紋度及表面粗糙度的測量，也可分析截面、刻線凹槽深度和臺階高度等，具有高測量精度、操作便捷、功能齊全、測量參數涵蓋面廣等優點，是目前在3D檢測領域精度的測量儀器之一。

產品參數

技術指標	參數值
掃描裝置	長范圍，Z軸納米光柵控制
物鏡	無限遠共軛干涉物鏡2.5X，5X，10X，20X，50X （其它可定制）
視場	與選用物鏡及放大倍率相關運用圖像拼接技術可得到更大范圍
光源	白光光源，可控亮度調節
測量陣列	高穩定度工業級相機
樣件觀察	軟件集成窗口實時視頻觀察
Z 軸	典型200mm行程
縱向掃描	7.4mm(10X鏡頭）
粗糙度重復性	<0.01nm
橫向分辨率	0.4μm~10.2μm，與選用物鏡相關
臺階測量	準確度≤0.75%，重復性≤0.1 % 1σ
縱向分辨率	<0.1nm