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ADEPT 1010 動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀

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具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號ADEPT 1010

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地上海

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更新時間:2023-09-22 10:36:50瀏覽次數(shù):388次

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商鋪產(chǎn)品:9條

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產(chǎn)品簡介

動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀(D-SIMS)是使用一次離子束(通常是Cs源)轟擊樣品表面,而產(chǎn)生二次離子,然后用質(zhì)譜分析儀分析二次離子的質(zhì)荷比(m/q),從而得知元素在樣品中的深度分布,是分析半導(dǎo)體摻雜和離子注入的有力的工具。

詳細介紹

優(yōu)勢

ULVAC-PHI 新設(shè)計的四極桿-二次離子質(zhì)譜儀 ADEPT 1010,在原有的 PHI 6300 和 PHI 6600 的基礎(chǔ)上,改善了離子光學(xué)系統(tǒng),是在一次離子能量低至 250eV 時,仍保持有效的濺射束流的動態(tài)二次離子質(zhì)譜系統(tǒng)(D-SIMS)。


特點

大束流低能量離子槍設(shè)計,提高了深度分辨率

高性能離子光學(xué)系統(tǒng),改善了二次離子傳輸效率,在提高分析效率的同時又提高了檢測靈敏度

高精度全自動 5 軸樣品操控臺

不同方向進入檢測器的二次離子,均可被高靈敏地收集檢測

應(yīng)用實例分析

采用一次離子源 Cs 在加速 5kV 束流為 100nA 的條件下,分析 GaAs 中注入的 H,C,O 元素。可以看到 H 檢測限值 7.1 × 1016 atm/cm3O 檢測限值 4.4 × 1015 atm/cm3,C 檢測限值 2.0 × 1015 atm/cm3


關(guān)鍵詞:二次離子質(zhì)譜儀
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