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北京歐波同光學技術有限公司


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鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVO 18

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更新時間:2023-09-19 09:48:51瀏覽次數(shù):315次

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產(chǎn)品簡介

鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVO18詳細描述:品牌:卡爾·蔡司型號:EVO18制造商:德國卡爾蔡司公司經(jīng)銷商:歐波同有限公司免費:【品牌故事】世界可見光及電子光學的企業(yè)——德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年

詳細介紹

鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVO 18


詳細描述:
 

 品牌:卡爾·蔡司

 型號:EVO 18

 制造商:德國卡爾蔡司公司

 經(jīng)銷商:歐波同有限公司

免費:


【品牌故事】 

     世界可見光及電子光學的企業(yè)——德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其 電子光學前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)和Zeiss。積掃描電鏡領域40多年及透射電鏡領域60年的經(jīng)驗,電子光學成像技術在世界上創(chuàng)造了數(shù)個里程碑:

    -與AEG公司合作實現(xiàn)了透射電子顯微鏡的商業(yè)化(1949)
    -陸續(xù)推出的EM9型電子顯微鏡是世界上具有自動曝光控制的電磁式
    -透射電子顯微鏡TEM(1956)
    -推出EM902型配用Castaing-Henry過濾器商用電子顯微鏡,用戶利用
    -該種新產(chǎn)品能夠得到高分辨率元素分布圖片(1984)
    -配用靜電電磁物鏡(Gemini技術)的場發(fā)射掃描電子顯微鏡DSM982
    -Gemini投放市場(1993)
    -推出具有Koehler照明的200KV場發(fā)射透射電鏡(2003)
    -推出具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的場發(fā)射透射電鏡(2003)

    CARL ZEISS其前瞻性和完善的設計,融合歐洲至上的制造工藝, 造就了該品牌在光電子領域的地位。自成立至今,一直延續(xù)不 斷創(chuàng)新的傳統(tǒng),公司擁有廣泛的專有技術,隨著離子束技術和基于電子束的 分析技術的加入,可為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案。其產(chǎn)品的高性能、 高質量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到世界范圍內廣大用戶的信賴與認可。

    作為一家電子光學產(chǎn)品提供商,我們將為您提供完善的納米技術解決方案,并且以專業(yè)化的手段讓您的投資物有所值。無論您是企業(yè)還是科研機構,卡爾 蔡司在高質量電子光學系統(tǒng)方面優(yōu)良的傳統(tǒng)都會為您的業(yè)績做出積極的貢獻。


【總體描述】
       
EVO18是一臺高性能、功能強大的高分辨應用型掃描電子顯微鏡。系統(tǒng)采用多接口的大樣品室和藝術級的物鏡設計,提供高真空成像功能,可對各種材料表面作分析。并且具有業(yè)界的X射線分析條件,樣品臺為五軸全自動控制。標準的高效率無油渦輪分子泵滿足快速的樣品更換和無污染成像分析。

  【技術參數(shù)】

分辨率:3.0 nm @ 30 KV (SE 與W)
               4.0 nm @ 30 KV (VP  with  BSD )
加速電壓:0.2-30KV
放大倍數(shù):5-1000000 x
探針電流:0.5PA-5μA
X-射線分析工作距離:8.5mm    35度接收角
低真空壓力范圍:10-400Pa(選配10-750Pa、LS10:環(huán)掃模式10-3000pa)
工作室:365mm (Φ) x 275 mm (h)
5軸優(yōu)中心自動樣品臺:X=125mm Y=125mm Z=50mm   
                                          T= -10°- 90°   R=360°(l連續(xù))
較大試樣高度:145mm   大試樣直徑:250mm
系統(tǒng)控制:基于Windows 7 的SmartSEM 操作系統(tǒng)
存儲分辨率為32,000 x 24,000 pixels

 【產(chǎn)品應用】
       
掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。




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