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多靶位立式磁控濺射鍍膜機

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更新時間:2023-12-21 12:06:08瀏覽次數:214次

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產品簡介

該設備可沉積單金屬、合金、及多種介質膜,多層膜;主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜(耐磨、防腐、導電膜、絕緣膜等)的研發和小批生產。

詳細介紹

  一、應用領域:

  該設備可沉積單金屬、合金、及多種介質膜,多層膜;主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜(耐磨、防腐、導電膜、絕緣膜等)的研發和小批生產。

  二、性能參數

  1. Φ1000x700水冷真空腔體,側開門,樣品架公自轉;

  2. 頂部和側面布置有濺射靶位8個;

  3. 6″直流靶6只,每只各配3KW直流電源1套;

  4. 6″射頻靶2只,各配1.5KW射頻電源1套;

  5. 系統配考夫曼離子源用于工件清洗;

  6. 腔室可加熱,加熱溫度300℃。

  7. 極限真空:5x10-4Pa。

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