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JC Nabity電子束曝光系統(NPGS納米圖形發生器)

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更新時間：2025-05-20 14:00:05瀏覽次數：20次

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產品簡介

自上世紀八十年代成立以來，美國JC Nabity Lithography Systems公司一直致力于基于商品SEM、STEM或FIB的電子束光刻裝置的研制，其研發的納米圖形發生器系統（Nanometer Pattern Generation System納米圖形發生系統，簡稱NPGS，又稱電子束微影系統）技術在同類系統中，為行業者，世界各地越來越多的用戶包括大學、科研機構及政府實......

詳細介紹

　　基于SEM/FIB改裝的NPGS V9.1電子束曝光系統

　　1)NPGS以既有的SEM、STEM或FIB等為基礎，外加電子束控制系統，透過電腦界面控制電鏡中電子束的矢量掃描，以直接刻寫圖形。

　　2)NPGS系統兼具原SEM的觀測功能。不影響SEM本身功能。

　　3)功能強大、操作簡便、使用靈活。

　　4)NPGS和當今主流的SEM或FIB等均可配套。

　　NPGS V9.0是一個可以控制掃描電鏡電子束的軟件程序。基于電鏡的電子束曝光簡單分為兩部分：刻寫設計和圖形運行。刻寫設計是通過NPGS隨機提供的DesignCAD程序來做。此CAD程序已經過修改，增加了用于電子束曝光的命令。圖形運行包括設定參數，用于NPGS計算圖形上每個點的位置以及曝光時間。

　　NPGS硬件板卡：定制的微影板卡是基于一個計算機工作站內部高速PCIe插槽安裝的。主要特點是：

　　1. 采用16位高速數模轉換輸出，X、Y雙通道同時輸出，同步掃描頻率5 MHz，兼容6MHz，電子束駐留時間最小增量0.5納秒，且所有頻率下均能達到這個分辨率。

　　2. 刻寫掃描方式：矢量掃描方式和位圖掃描方式。

　　3. 集成的電子束閘控制輸出。

　　4. 圖像獲取采用集成的16位模數轉換輸入。

　　5. 基于PCIe插槽，安裝方便，運行可靠。

　　電子束阻斷器(束閘)：電場型高速束閘。NPGS系統也支持無束閘運行。

　　皮可安培計：基于SEM的電子束曝光系統需要一個皮安計，它可精確讀出轟擊樣品的電子束束流。通常，需要從電鏡載物臺外接一個皮安計與樣品電流輸出相連。

　　電鏡束流：NPGS能可選連接控制法拉第杯和/或從皮可安培計讀數，但大多數用戶會采用手動控制的法拉第杯和皮可安培計。

　　電鏡參數及電動臺控制：免費提供幾款通用的電鏡數字驅動程序及載物臺驅動程序。如果有串口通訊協議，本系統支持任何外部控制。