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南京覃思科技有限公司
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K975S高真空熱蒸發鍍膜儀
K975X/K975S高真空熱蒸發鍍膜儀
K975X渦輪泵高真空蒸鍍儀是一個多用途鍍膜系統，它具有靈活性和模塊化擴展功能，以適應不同的樣品制備。K975X可實現一系列制樣技術，包括TEM的碳支持膜及覆形膜，碳/金屬蒸鍍、低角度投影(可選)和通過使用雙源蒸發(可選)進行順序鍍層，濺射鍍膜附件(可選)能適用于多種靶材。的抽屜式樣品裝載系統使得用戶可方便地放入各種樣品，鉸鏈式頂蓋結構也很容易到達工作腔室內的各個區域。
K975S基于K975X，但它具有特殊的和更大的樣品裝載門，可允許放入8英寸（200mm）晶圓或類似大樣品鍍碳。碳棒蒸發源直接安裝在真空腔室頂蓋板上，便于碳槍操作，并為大直徑樣品提供所需的蒸發源至樣品的距離。與K975X不同，K975S沒有安裝金屬蒸發源以及相應的底板安裝立柱。
儀器特點：
• 全自動抽真空系統
• 樣品尺寸可達140毫米見方或200毫米直徑
• 設計的“anti-stick”碳棒蒸發槍
• 抽屜式樣品裝載系統
• 可選的蒸鍍類型，具有四種蒸發設置
• 有節制的破真空排氣控制
• 可選濺射附件
• 可選膜厚監測附件（FTM）
推薦應用：
• 碳棒/碳繩蒸發
• 金屬蒸發
• 掃描電鏡光闌清潔（鉬舟）
• TEM用碳支撐膜和覆形膜
• 低角度陰影
• 采用雙源蒸發的連續鍍層
• EDX、WDS、EBSD分析
• 可選的磁控濺射應用
對于SEM應用的機械泵抽真空的噴金噴碳儀，請參見SC7620和Q150R Plus。對于FE-SEM應用所需的超細顆粒鍍膜，建議采用高真空鍍膜儀，請參見Q150T Plus、Q150V Plus或Q150GB；如需大腔室版本的鍍膜系統，請參見：Q300T T Plus、Q300T D Plus、Q300T ES Plus和K975X/K975S。這些產品科研用途。
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