從理論研究到實際應用，光催化氧化技術(shù)在廢水處理和廢氣凈化都是一項成熟的工藝，工藝有效性的關(guān)鍵在于紫外線的強度和催化劑的催化能力以及催化時間。從光觸媒空氣凈化器到光催化廢氣凈化設備，能夠發(fā)現(xiàn)許多非常不科學的設計，例如廢氣在處理設備中的停留時間；催化劑的面積；催化劑的純度和TiO2的納米直徑；催化劑的固化結(jié)構(gòu)；紫外線燈的設置（數(shù)量、距離），都直接決定和影響光催化氧化的能力。TiO2通用技術(shù)說明......

詳細介紹

TiO2通用技術(shù)說明
　　光催化氧化處理污染物是一種新興的技術(shù)，其中納米TiO2光催化應用技術(shù)工藝簡單、成本低廉，利用自然光即可催化分解細菌和污染物，具有高催化活性、良好的化學穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性、無二次污染、無刺激性、安全無毒等特點，且能長期有益于生態(tài)自然環(huán)境，是具有開發(fā)前景的綠色環(huán)保催化技術(shù)之一。此外，由于顆粒的細微化，納米材料還具有塊狀材料所不具備的表面效應、量子尺寸效應、小尺寸效應和宏觀量子隧道效應。

TiO2 的光催化機理
　　半導體的能帶結(jié)構(gòu)通常是由一個充滿電子的低能價帶和一個空的高能價帶構(gòu)成，它們之間的區(qū)域稱為禁帶。禁帶是一個不連續(xù)區(qū)域。當能量大于或等于半導體帶隙能的光波輻射此半導體催化劑時，處于價帶的電子(e)就會被激發(fā)到導帶上，價帶生成空穴(h+)，從而在半導體表面產(chǎn)生具有高度活性的空穴/電子對。TiO2 的帶隙能為 3.2ev，相當于波長為 387.5nm光子的能量，當TiO2 受到波長小于 387.5nm的紫外光照射時，處于價帶的電子就會被激發(fā)到導帶上去，從而分別在價帶和導帶上產(chǎn)生高活性的光生空穴和光生電子。在電場的作用下，電子與空穴發(fā)生分離，遷移到粒子表面的不同位置。熱力學理論表明，分布在TiO2表面的空穴可以將吸附在其表面的OH-和H2O分子氧化成·OH。而電子(e-)具有很強的還原性，可使得TiO2固體表面的電子受體如O2 被還原。O2既可以抑制光催化劑上電子和空穴的復合，提高反應效率，同時也是氧化劑，可以氧化已經(jīng)羥化的反應產(chǎn)物，是表面羥基自由基的另一個來源。締合在Ti4+表面的·OH的氧化能力是水體中存在的氧化劑中的，能夠氧化大部分的有機污染物及部分無機污染物，將其最終降解為CO2、H2O等無害物質(zhì)，并且對反應物幾乎無選擇性，因而在光催化氧化中起著決定性的作用。從理論上說，只要半導體吸收的光能大于等于其帶隙能，就能被激發(fā)產(chǎn)生光生電子和光生空穴，該半導體就可以作為光催化劑，但從實際來看，一個具有實際應用價值的半導體光催化劑必須具有化學穩(wěn)定性、光照穩(wěn)定性、高效性和選擇性及較寬的光譜響應，同時還要考慮到材料成本和光匹配性等因素。

TiO2 光催化氧化處理有機污染物
　　TiO2 具有無毒、催化活性高、光化學性質(zhì)穩(wěn)定以及抗氧化能力強等優(yōu)點，是光催化氧化法中常用的催化劑，其催化活性與催化劑的粒徑、表面狀態(tài)及晶型等因素有關(guān)，同時TiO2還可通過貴金屬及金屬氧化物、金屬離子摻雜、復合半導體、外加電場等方式來提高光催化降解的效率。Jenks實驗組研究了在TiO2懸浮液中4-氯的光解過程，發(fā)現(xiàn)4-氯在光催化作用下降解很，最后可開環(huán)礦化為H2O、CO2、Cl-等無機小分子化合物；Lgldo等人考4-硝基在TiO2(銳鈦礦型)/TiO2(金紅石型)光催化劑作用下的降解過程，并與TiO2(銳鈦礦型)/Al2O3進行了比較，發(fā)現(xiàn)兩種催化劑都有活性，而且它們的活性隨銳鈦礦型TiO2 含量的增加而提高；TiO2 負載Pt后能將有機磷殺蟲劑光催化降解的速率提高 4.5～6 倍。

NBL光催化氧化技術(shù)核心
　　催化劑比表面積；寬譜紫外線波長小于387nm的比例；催化劑的固化技術(shù)；紫外線燈的使用壽命構(gòu)成了NBL的四大核，1：催化劑的比表面積，NBL催化劑的比表面積1m2:1000m3設計裝配，是目前同類產(chǎn)品中比表面積的，光觸媒載體經(jīng)科學選料，特殊處理，耐高溫，耐腐蝕，呈燒結(jié)態(tài)；2：催化劑的固化技術(shù)，催化劑的脫落是催化劑固化的常見現(xiàn)象，催化劑和載體表面的附著力是困擾催化劑固化的主要問題，NBL首先采用真空固化技術(shù)，限度除去載體表面的油性和水份，同時在凈油過程中又要防止載體表面的釉面的破壞，導致催化劑的滲入，真空固化的載體，再經(jīng)高溫烘烤，使光觸媒涂層呈燒結(jié)態(tài)和立體凹凸，在固化的同時增加催化劑的比表面積；3：寬譜紫外線波長小于387nm的比例，通用型的紫外線燈包括高臭氧燈，185nm以下的光波比例不到3%；185nm-387nm的也不到14%，瞬間光強催化的能力有道提高，紫外線燈的壽命國產(chǎn)只有5000小時，進口也不超過10000小時，主要的原因是電極被氧化，NBL采用無極燈技術(shù)，克服了傳統(tǒng)由于電極氧化造成的紫外線燈燒毀，設計壽命達到50000小時，由于無極燈采用高頻激發(fā)技術(shù)，185nm以下波長的比例明顯提高，合理設計可以達到12%，同時由于高頻技術(shù)的空間傳播特性，微波本身就具有催化功能，因此某種程度上講，系統(tǒng)具備了雙重催化功能。
　　NBL光催化氧化技術(shù)是有NBL公司微波低溫等離子體廢氣凈化設備（號ZL.4）升華而成，污染物分子有引風機引入光催化區(qū)，大體要經(jīng)歷電子轟擊、強氧化劑-OH的氧化、185nm以下紫外線光解、臭氧氧化、電子轟擊、強氧化劑-OH的氧化、臭氧氧化、正氧離子氧化等過程；從結(jié)構(gòu)空間上講，污染物依次經(jīng)過光觸媒催化區(qū)、無極燈光解區(qū)、光觸媒催化區(qū)、氧化區(qū)，設計停留時間1.5s，雙層催化劑結(jié)構(gòu)不但保證了催化比表面積；同時發(fā)揮了均布導流的高能，在有限的空間限度保證空間上和紫外線無極燈的充分接觸，增加和提高活性粒子和污染物的接觸機會和時間。

幾種常見污染物的氧化
降解硫化氫、氨、甲硫醇
1、硫化氫
　　硫化氫的光化學反應如下
　　O3+hv→O2+·O
　　·O+H2O→2·OH
　　·O+O2→O3
　　H2S+O3+hv→S2-+H2O+O2

2、氨
氨同樣可以在光化學離子有害氣體處理設備中得到較好的去除，發(fā)生初級光化學離子反應后的分子或者自由基吸收輻射后繼續(xù)發(fā)生化學變化，產(chǎn)生的產(chǎn)物能夠進一步參與次級化學過程。氨的光降解涉及以下反應：
（1）觸發(fā)反應
　　O3+hv→O2+·O
　　O2+hv→·O +·O
　　NH3+hv→·NH+2·H
　　O3+OH-→·HO2 +·O2-
　　·HO2→·O2-+H+

（2）傳遞過程
　　·O+H2O→2·OH
　　·O+O2→O3
　　·O2-+O3→·O3-+O2
　　·O3-+H+→··HO3
　　2·NH→N2+2·H

（3）終止反應
　　2·NH+·O→N2+H2O

3、甲硫醇
甲硫醇的光化學離子反應和硫化氫的類似，同樣是因為HS-結(jié)構(gòu)型式的破壞而失去臭味。
　　O3+hv→O2+·O
　　·O+H2O→2·OH
　　·O+O2→O3
　　HS-+O3+hv→S2-+·OH +O2