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行業產品

  • 行業產品

鄭州科佳電爐有限公司


  • 滑道式PECVD系統

    詳細摘要: 產品介紹:滑道式PECVD系統由PT-1200T管式爐加熱系統、真空系統、質量流量計供氣系統、等離子射頻電源系統組成

    產品型號:KJ-T1200-S6044-LK-Z所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 大口徑CVD管式爐

    詳細摘要: 產品介紹:KJ-T1200大口徑CVD管式爐是一種具有60mm直徑石英管,真空泵和三通道質量流量計氣體流動系統的可拆分管式爐

    產品型號:KJ-T1200-CVD所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 旋轉PECVD系統

    詳細摘要: 產品用途:PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜

    產品型號:KJ-T1200-S80-DZPECVD-R所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • CVD系統

    詳細摘要: 產品介紹:該設備由蒸發器、混合器和反應器組成

    產品型號:KJ-T1600-CVD所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 小型CVD管式爐

    詳細摘要: 產品概述:KJ-T1200-S50-3Z迷你型CVD管式爐,是一款通過CE認證的可開啟式管式爐,能使樣品加熱到1200℃

    產品型號:KJ-T1200-S50-3Z所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 科研型擴散氧化爐

    詳細摘要: 產品特點:1、可滿足多晶硅、氮化硅、擴散、氧化、退火等工藝2、采用高可靠性工控機+PLC模式,對爐溫、進退舟、氣體流量、閥門進行全自動控制,實現全部工藝過程自動...

    產品型號:KJ-T1300-LZ-10KS所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 石墨稀、碳納米管材料CVD設備

    詳細摘要: 產品介紹:KJ-T1050-CVD-LZ型石墨稀、碳納米管材料CVD設備由管式爐+真空系統+供氣系統+水冷系統組成,溫度可以達到1050度,可以是單溫區、雙溫區...

    產品型號:KJ-T1050-CVD-LZ所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 1200度三溫區CVD管式爐

    詳細摘要: 產品介紹:KJ-1200T-S60LK3-3FZ型CVD管式爐由KJ-T1200管式爐+真空系統+供氣系統組成,溫度可以達到1200度,可以是單溫區、雙溫區、三...

    產品型號:KJ-1200T-S60LK3-3FZ所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 1200℃高溫真空CVD設備

    詳細摘要: 產品介紹:KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S型高溫真空CVD設備由KJ-T1200滑動式快速退火管式爐+真空系統+供氣系統組成

    產品型號:KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 混氣管式PECVD系統

    詳細摘要: KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混氣管式PECVD系統,由KJ-T1200單溫區管式爐、真空系統、質子流量計、射頻電源系統系統組成

    產品型號:KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 四路高溫真空CVD設備

    詳細摘要: 產品介紹:KJ-T1200-S60K-4C型四路高溫真空CVD設備由KJ-T1200滑動式快速退火管式爐+真空系統+供氣系統組成,溫度可以達到1200度,極限真...

    產品型號:KJ-T1200-S60K-4C所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 箱式化學氣相沉積系統

    詳細摘要: 產品介紹:液壓鐘罩氣氛爐采用爐體和智能控制一體化設計,整個爐體美觀、大方

    產品型號:KJ-M1200(1400/1700)-Z所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 3通道CVD設備

    詳細摘要: 簡單介紹:KJ-T1600CVD是一種管式爐,具有80mm直徑的氧化鋁管和三通道質量流量計氣體流動系統

    產品型號:KJ-T1600 -3M所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 高溫化學氣相沉積系統

    詳細摘要: 產品介紹:該高溫化學氣相沉積系統的工作溫度為300℃至1600℃,配備真空泵,氣體混合裝置

    產品型號:PT-CVD-1700-60*300-F3所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 等離子體增強化學氣相沉積系統

    詳細摘要: 產品介紹:等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術是借助于輝光放電(等離子體)使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜技術生長的一種系的制備技術

    產品型號:KJ-PECVD-D1所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 三溫區CVD設備

    詳細摘要: 產品特點:1、控制電路選用模糊PID程控技術,該技術控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單

    產品型號:KJ-OTF-1700-F5所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 1600 CVD 系統

    詳細摘要: 產品介紹:KJ-CVD是一種分體式管式爐,配備60mm直徑的石英管、真空泵和四通道質量流量計氣體流動系統

    產品型號:KJ-T1600 CVD所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 1200度CVD設備

    詳細摘要: 產品介紹:KJ-T1200CVD是一種管式爐,配備100mm直徑石英管、真空泵和五通道質量流量計氣體流動系統

    產品型號:KJ-T1200-S440所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • PECVD系統

    詳細摘要: 產品介紹:該產品是由射頻電源、氣體質子流量控制系統、襯底控溫系統、真空系統組成,適用于室溫至1200℃條件下進行SiO2、SiNx薄膜的沉積,同時可實現TEOS...

    產品型號:KJ-T1200-PE所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

  • 1200℃PECVD系統

    詳細摘要: 產品介紹:PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜

    產品型號:KJ-PECVD-1200-50*300-F3所在地:鄭州市更新時間:2025-05-12 在線留言

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