Spectra Thick, K-MAC公司的薄膜厚度測量系統，采用的是光學技術方法。在薄膜的表面利用反射光和在下部的界面反射的光之間的干涉現象或是利用光的相位差來決定薄膜的性質。這樣我們不但可以測量薄膜厚度還可測量光學常數。如果是透明薄膜且可維持光的干涉性，用ST系列可測量任何樣品。通過數學計算多層薄膜的每個層的厚度都可測量。由于采用的是用戶友好界面，操作十分簡單。樣品不會受到損害，并可快速測量從Å到數十㎛的大范圍厚度。

技術參數：

測量方法： 非接觸式
測量原理：反射計
類型：手動的
平臺尺寸： 4" （可選6" ）
活動范圍：150 x 120mm(70 x 50mm 移動距離)
測量范圍 ：200Å~ 35㎛(根據膜的類型)
光斑尺寸：20㎛ 典型值 （可選10㎛、50㎛）
測量速度：1~2 sec./site
物鏡轉換器：Quadruple Revolving Mechanism with Inward Tilt
照明類型：12V 35W Tungsten-Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer 
尺寸：190 x 265 x 316 mm
重量：12Kg 
探頭類型：三目探頭
可供選擇：標準樣品(K-MAC or KRISS or NIST)

應用領域：

半導體：Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS + Si, Ge, SiGe...
介質材料：SiO2, TiO2, TaO5, ITO, ZrO2, Si3N4, Photoresist, ARC,...
平板行業：(包括 LCD, PDP, OLED, ): a-Si, n+-a-Si, Gate-SiNx MgO, AlQ3 , ITO, PR, CuPc, NPB, PVK, PAF, PEDT-PSS, Oxide, Polyimide...
光學涂層：硬度涂層、增反射薄膜、Color Filters、封裝與功能薄膜...
太陽能電池： Doping a-Si(i-type, n-type, p-type), TCO(ZnO, SnO, ITO..)
聚合物：PVA, PET, PP, Dye, Npp, MNA, TAC, PR...
Recordable materials: Photosensitive drum, Video head, Photo masks, Optical disk
其他：示波管上的光阻薄膜材料與掩膜板、金屬薄膜、激光鏡...　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

主要特點：

測量迅速，操作簡單
非接觸式，非破壞方式
優秀的重復性和再現性
用戶易操作界面
每個影像打印和數據保存功能
可測量多達3層
可背面反射

產品規格

貨號	型號	名稱	規格	價格	備注	購買
	ST2000-DLXn	薄膜測厚儀	活動范圍：150 x 120mm(70 x 50mm 移動距離)	登陸查看	可供選擇：標準樣品(K-MAC or KRISS or NIST)
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