高溫真空管式爐采用優質陶瓷SiC碳化硅棒作為加熱元件,用于材料燒結或化學實驗室在真空或其它氣體條件下燒結材料樣品。該設備技術成熟、質量可靠，溫場均勻，結構合理；根據管徑不同，法蘭分為卡箍和折頁兩種密封方式，安裝拆卸簡便快捷；該設備廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領域；廣泛用于真空或氣氛燒結、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環境。
高溫真空管式爐在使用時需要注意問題：
1、管式爐使用或長時間不用后，要在120℃左右烘烤，在300℃左右烘烤使用，以免造成爐膛開裂。爐溫盡量不要超過額定溫度，以免損壞加熱元件及爐襯。禁止向爐膛內直接灌注各種液體及溶解金屬，保持爐內的清潔。
2、冷爐使用時，由于爐膛是冷的，須大量吸熱，所以低溫段升溫速率不易過快，各溫度段的升溫速率差別不易太大，設置升溫速率時應充分考慮所燒結材料的物理化學性質，以免出現噴料現象，污染爐管。
3、管式爐使用過一段時間后，若真空度降低，可分別更換不銹鋼法蘭盤之間的耐溫硅膠圈或重新安裝不銹鋼法蘭盤或更換修理真空系統，以提高系統的整體真空度。
4、爐膛若采用石英管，當溫度高于一千度時，石英管的高溫部分會出現不透明現象，這叫失透(又叫析晶性)是連熔石英管的一個固有缺陷，屬正常現象。
5、定期檢查溫度控制系統的電器連接部分的接觸是否良好，應特別注意加熱元件的各連接點的連接是否緊固。
