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盛美半導體設備（上海）股份有限公司

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晶圓制造

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Post-CMP清洗設備參考價：面議
盛美上海的Post-CMP設備用于制造高質量襯底化學機械研磨(CMP)工藝之后的清洗，有濕進干出（WIDO）和干進干出（DIDO）兩種配置。該清洗設備6英寸和8...
型號：廠商性質：經銷商所在地：對比

2023/8/12 7:33:071531

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