什么是電漿？

等離子體(plasma)又叫做電漿，是由部分電子被剝奪后的原子及原子團(tuán)被電離后產(chǎn)生的正負(fù)離子組成的離子化氣體狀物質(zhì)，尺度大于德拜長度的宏觀電中性電離氣體，其運動主要受電磁力支配，并表現(xiàn)出顯著的集體行為。它廣泛存在于宇宙中，常被視為是除去固、液、氣外，物質(zhì)存在的第四態(tài)。

等離子體是一種很好的導(dǎo)電體，利用經(jīng)過巧妙設(shè)計的磁場可以捕捉、移動和加速等離子體。等離子體物理的發(fā)展為材料、能源、信息、環(huán)境空間、空間物理、地球物理等科學(xué)的進(jìn)一步發(fā)展提供了新的技術(shù)和工藝。 等離子體是不同于固體、液體和氣體的物質(zhì)第四態(tài)。物質(zhì)由分子構(gòu)成，分子由原子構(gòu)成，原子由帶正電的原子核和圍繞它的、帶負(fù)電的電子構(gòu)成。當(dāng)被加熱到足夠高的溫度或其他原因，外層電子擺脫原子核的束縛成為自由電子，就像下課后的學(xué)生跑到操場上隨意玩耍一樣。電子離開原子核，這個過程就叫做“電離”。這時，物質(zhì)就變成了由帶正電的原子核和帶負(fù)電的電子組成的、一團(tuán)均勻的“漿糊”，因此人們戲稱它為離子漿，這些離子漿中正負(fù)電荷總量相等，因此它是近似電中性的，所以就叫等離子體。

電漿清洗機原理介紹：

等離子電漿體的產(chǎn)生是利用直流，交流，射頻或微波能源的方式，在適當(dāng)?shù)牡蛪籂?態(tài)（約 100mTorr 至 1Torr)及密閉空間加以電壓（12ev)，通入密閉空間之氣體就可以被離子化；再利用離子化之粒子及借由電極板所提供之電場，加速粒子間之撞擊作用。而經(jīng)由撞擊產(chǎn)生之二次電子與通入密閉空間之氣態(tài)粒子，尤其是不帶電荷的氣體分子及原子團(tuán)再次發(fā)生撞擊，在撞擊之間便產(chǎn)生了電漿及火光。等離子體形成過程，在高頻電場中處于低氣壓狀態(tài)的氧氣、氮氣、甲烷、水蒸氣等氣體分子在輝光放電的情況下，可以分解出加速運動的原子和分子。這樣產(chǎn)生的電子在 電場中加速時會獲得高能量，并與周圍的分子或原子發(fā)生碰撞，結(jié)果使分子和原子中又 激發(fā)出電子，而本身又處于激發(fā)狀態(tài)或離子狀態(tài)，這時物質(zhì)存在的狀態(tài)即為等離子體狀 態(tài)。在等離子體中除了氣體分子、離子和電子外，還存在受到能量激勵狀態(tài)的電中性的 原子或原子團(tuán)（又稱自由基），以及等離子體發(fā)射出的光線，其中波的長短、能量的高低在等離子體與物質(zhì)表面相互作用時有著重要作用。PLASMA 電漿體對有機污染物之清除方法有二：一是化學(xué)反應(yīng)：利用氧原子或氫原 子與污染物相結(jié)合方式，來達(dá)成電漿處理；二是物理反應(yīng)：利用正離子撞擊方式如氬氣， 使含 C-H 鍵之污染物脫離而達(dá)成清除之目的。

電漿清洗機的優(yōu)點：

安全性：電漿提供一個使用一個電能去促進(jìn)表面清潔，比加熱更低溫的化學(xué)反應(yīng)環(huán)境，排除了濕法化學(xué)額危險性。

環(huán)保性：電漿反應(yīng)過程是氣體解離的干式反應(yīng)，不消耗水資源，無需添加化學(xué)藥劑，反應(yīng)不需要回收處理，對環(huán)境無污染與環(huán)保問題。

溫度低：接近常溫，特別適合高分子材料，比電暈和火焰方法有更長的保存時間和較高的表面張力。

廣式性：不分處理物件的基材類型，均可進(jìn)行處理。如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大都數(shù)高分子材料等均可進(jìn)行處理。

功能強：僅涉及各種材料的表面進(jìn)行清洗，可以保持材料本身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能。（親水性改善）

低成本：裝置簡單，易操作與維護(hù)保養(yǎng)，可長時間連續(xù)運行，沒有高額耗材，也沒有溶劑成本，清洗成本大大低于濕法清洗。

全程參數(shù)可控：提供簡單制程，提高工作效率，所有參數(shù)均可進(jìn)行設(shè)置并記錄，控制產(chǎn)品品質(zhì)。

處理形狀無限制：無論大或小，復(fù)雜或簡單，部分，或整體，均可以進(jìn)行電漿表面清洗。