什么是電漿？

等離子體(plasma)又叫做電漿，是由部分電子被剝奪后的原子及原子團被電離后產生的正負離子組成的離子化氣體狀物質，尺度大于德拜長度的宏觀電中性電離氣體，其運動主要受電磁力支配，并表現出顯著的集體行為。它廣泛存在于宇宙中，常被視為是除去固、液、氣外，物質存在的第四態。

等離子體是一種很好的導電體，利用經過巧妙設計的磁場可以捕捉、移動和加速等離子體。等離子體物理的發展為材料、能源、信息、環境空間、空間物理、地球物理等科學的進一步發展提供了新的技術和工藝。 等離子體是不同于固體、液體和氣體的物質第四態。物質由分子構成，分子由原子構成，原子由帶正電的原子核和圍繞它的、帶負電的電子構成。當被加熱到足夠高的溫度或其他原因，外層電子擺脫原子核的束縛成為自由電子，就像下課后的學生跑到操場上隨意玩耍一樣。電子離開原子核，這個過程就叫做“電離”。這時，物質就變成了由帶正電的原子核和帶負電的電子組成的、一團均勻的“漿糊”，因此人們戲稱它為離子漿，這些離子漿中正負電荷總量相等，因此它是近似電中性的，所以就叫等離子體。

電漿清洗機原理介紹：

等離子電漿體的產生是利用直流，交流，射頻或微波能源的方式，在適當的低壓狀 態（約 100mTorr 至 1Torr)及密閉空間加以電壓（12ev)，通入密閉空間之氣體就可以被離子化；再利用離子化之粒子及借由電極板所提供之電場，加速粒子間之撞擊作用。而經由撞擊產生之二次電子與通入密閉空間之氣態粒子，尤其是不帶電荷的氣體分子及原子團再次發生撞擊，在撞擊之間便產生了電漿及火光。等離子體形成過程，在高頻電場中處于低氣壓狀態的氧氣、氮氣、甲烷、水蒸氣等氣體分子在輝光放電的情況下，可以分解出加速運動的原子和分子。這樣產生的電子在 電場中加速時會獲得高能量，并與周圍的分子或原子發生碰撞，結果使分子和原子中又 激發出電子，而本身又處于激發狀態或離子狀態，這時物質存在的狀態即為等離子體狀 態。在等離子體中除了氣體分子、離子和電子外，還存在受到能量激勵狀態的電中性的 原子或原子團（又稱自由基），以及等離子體發射出的光線，其中波的長短、能量的高低在等離子體與物質表面相互作用時有著重要作用。PLASMA 電漿體對有機污染物之清除方法有二：一是化學反應：利用氧原子或氫原 子與污染物相結合方式，來達成電漿處理；二是物理反應：利用正離子撞擊方式如氬氣， 使含 C-H 鍵之污染物脫離而達成清除之目的。

電漿清洗機的優點：

安全性：電漿提供一個使用一個電能去促進表面清潔，比加熱更低溫的化學反應環境，排除了濕法化學額危險性。

環保性：電漿反應過程是氣體解離的干式反應，不消耗水資源，無需添加化學藥劑，反應不需要回收處理，對環境無污染與環保問題。

溫度低：接近常溫，特別適合高分子材料，比電暈和火焰方法有更長的保存時間和較高的表面張力。

廣式性：不分處理物件的基材類型，均可進行處理。如金屬、半導體、氧化物和大都數高分子材料等均可進行處理。

功能強：僅涉及各種材料的表面進行清洗，可以保持材料本身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能。（親水性改善）

低成本：裝置簡單，易操作與維護保養，可長時間連續運行，沒有高額耗材，也沒有溶劑成本，清洗成本大大低于濕法清洗。

全程參數可控：提供簡單制程，提高工作效率，所有參數均可進行設置并記錄，控制產品品質。

處理形狀無限制：無論大或小，復雜或簡單，部分，或整體，均可以進行電漿表面清洗。