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PLASMA等離子清洗機(jī) 去除晶元光刻膠設(shè)備
| 參考價(jià): | ￥ 2000 |
| 訂貨量: | 1 件 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)- PLASMA 產(chǎn)品型號(hào)
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訪問次數(shù)：1125更新時(shí)間：2023-05-07 20:26:14
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產(chǎn)品簡介
產(chǎn)品介紹
在IC芯片制造領(lǐng)域中，等離子清洗機(jī) 去除晶元光刻膠設(shè)備已是一種不可替代的成熟工藝，不論在芯片源離子的注入，還是晶元的鍍膜，亦或是我們的低溫等離子體表面處理設(shè)備所能達(dá)到的：在晶元表面去除氧化膜、有機(jī)物、去掩膜等超凈化處理及表面活化提高晶元表面浸潤性。
等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)廣泛應(yīng)用，可有效去除表面污染物和顆粒，有利于提高導(dǎo)線鍵的強(qiáng)度，減少芯片分層的發(fā)生，提高芯片本身的質(zhì)量和使用壽命，提高包裝產(chǎn)品的可靠性。
等離子清洗機(jī)廣泛用于1、等離子表面活化/清洗2、等離子處理后粘合3、等離子蝕刻/活化4、等離子去膠;5、等離子涂鍍(親水,疏水)6、增強(qiáng)邦定性7、等離子涂覆8、等離子灰化和表面改性等場合通過等離子清洗機(jī)的處理，能夠改善材料表面的浸潤能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂
等離子清洗機(jī) 去除晶元光刻膠設(shè)備廣泛應(yīng)用于刻蝕、脫膠、涂層、灰度、等離子體表面處理。通過等離子清洗機(jī)的表面處理，可以提高材料表面的潤濕性，從而提高材料的涂層等性能，增強(qiáng)材料的附著力、粘結(jié)力和去除有機(jī)污染物。現(xiàn)在市場上出現(xiàn)的超聲波清洗機(jī)也并不能達(dá)到改性的效果，只能清洗一些表面的可見物，因?yàn)榉N種在制程中的不良，從而衍生了等離子清洗機(jī)之類的高特技產(chǎn)品。也越來越多的工業(yè)使用等離子清洗機(jī)，通過等離子清洗機(jī)可以達(dá)到表面改性、清洗、提升產(chǎn)品性能等作用，大大的減少了產(chǎn)品在制程中所造成的不良率，從而提高產(chǎn)品品質(zhì)、降低生產(chǎn)成本等等。
等離子清洗機(jī)，表面處理活化，刻蝕涂層設(shè)備可以增加表面張力，精細(xì)清潔，去除靜電，活化表面等功能，廣泛應(yīng)用于玻璃、金屬、線纜、橡膠、塑料、糊盒、糊箱、橡膠表面改性處理。
等離子清洗設(shè)備去除灰塵和油污、去靜電；.提高表面浸潤功能，形成活化表面；提高表面附著能力、提高表面粘接的可靠性和持久性；
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