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PLASMA半導(dǎo)體硅片等離子清洗機(jī)去膠設(shè)備
參考價(jià): 1500
訂貨量: 1 Kg
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • PLASMA 產(chǎn)品型號(hào)
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訪問次數(shù):508更新時(shí)間:2023-09-01 22:47:21

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
半導(dǎo)體硅片等離子清洗機(jī)去膠設(shè)備應(yīng)用于刻蝕、脫膠、涂層、灰度、等離子體表面處理。通過表面處理,可以提高材料表面的潤(rùn)濕性,從而提高材料的涂層等性能,增強(qiáng)材料的附著力、粘結(jié)力和去除有機(jī)污染物。等離子表面活化機(jī)可以處理基本材料在印刷或粘著活化、改性、接枝、粗化或清洗前等功能
產(chǎn)品介紹

半導(dǎo)體硅片等離子清洗機(jī) 去膠設(shè)備在清潔材料表面的同時(shí),還能對(duì)材料表面進(jìn)行活化,有利于材料進(jìn)行下一道的涂覆粘接等工藝。

半導(dǎo)體硅片等離子清洗機(jī)去膠設(shè)備清洗晶圓、芯片、LED、銅支架等等半導(dǎo)體器件,有效地去除表面的污垢和有機(jī)物,同時(shí)也能增強(qiáng)表面的附著力和表面能,半導(dǎo)體封裝等離子清洗機(jī) 清除微粒污染 氧化層 有機(jī)物 避免虛焊

半導(dǎo)體硅片等離子清洗機(jī)去膠設(shè)備去除表面污染物和顆粒,有利于提高導(dǎo)線鍵的強(qiáng)度,減少芯片分層的發(fā)生,提高芯片本身的質(zhì)量和使用壽命,提高包裝產(chǎn)品的可靠性。

半導(dǎo)體硅片等離子清洗機(jī)去膠設(shè)備應(yīng)用于去除光刻膠、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。  等離子清洗機(jī)能夠改善材料的潤(rùn)濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。

等離子清洗機(jī)去膠設(shè)備移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。

材料表面涂層、清洗、蝕刻、活化、去膠一臺(tái)等離子清洗機(jī)輕松搞定

專為半導(dǎo)體封裝和組裝 (ASPA)、晶圓級(jí)封裝 (WLP) 和微機(jī)電 (MEMS) 組裝的需求而設(shè)計(jì)等離子清洗機(jī)能改善或克服許多制造挑戰(zhàn),包括改善芯片附著、增加引線鍵合強(qiáng)度、消除倒裝芯片底部填充空隙以及減少封裝分層。

芯片貼裝 - 基板通過等離子清洗機(jī)表面活化提高芯片貼裝環(huán)氧樹脂的附著力,從而改善芯片和基板之間的粘合。更好的鍵合可改善散熱。

引線鍵合 - 在引線鍵合之前采用等離子清洗機(jī)對(duì)焊盤進(jìn)行清洗提高鍵合強(qiáng)度。

底部填充 - 底部填充工藝之前采用等離子表面處理機(jī)提高底部填充芯吸速度、增加圓角高度和均勻性、減少空洞并提高底部填充粘合力。

封裝和成型 - 等離子處理機(jī)增加基材表面能來提高成型化合物的附著力,改進(jìn)的粘合增加了封裝的可靠性。

MEMS - 加速度計(jì)、翻滾傳感器和氣囊展開傳感器等 MEMS 器件在制造過程中需要采用等離子清洗機(jī)提高器件產(chǎn)量和長(zhǎng)期可靠性。

半導(dǎo)體硅片等離子清洗機(jī) 去膠設(shè)備刻蝕、脫膠、涂層、灰度、等離子體表面處理。

半導(dǎo)體硅片等離子清洗機(jī) 去膠設(shè)備用于晶圓級(jí)封裝前表面預(yù)處理、晶圓級(jí)鍵合前表面活化、光刻膠涂覆前表面活化、晶圓表面較小particle去除、表面有機(jī)殘留去除等。







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