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詳細摘要： 日立臺式掃描電鏡畫質更加清晰，操作更加便捷，觀看更加直觀。TM4000系列搭載*技術，可滿足“更好"的觀察需求。

詳細摘要： 超高分辨場發射掃描電子顯微鏡Regulus系列繼承了現有機型的觀察和分析性能，配備SU8200系列的低噪音冷場發射電子槍*1，可以獲得高穩定的束流。

詳細摘要： 掃描電子顯微鏡 FlexSEM 1000通過高靈敏度二次電子探測器，背散射探測器，低真空探測器（UVD*2），實現低加速電壓/低真空下高質量圖像觀察

詳細摘要： 奧林巴斯STM7測量顯微鏡具有優良的多用途性，能夠以亞微米精度實現對零部件和電氣組件的高性能三軸測量。

詳細摘要： 奧林巴斯SZX16通用顯微鏡根據檢測應用的需求設計的，0.7x - 11.5x，變倍比可達16.4倍，分辨率可達900 LP/mm。能夠滿足廣泛的研究需求。

詳細摘要： 奧林巴斯BXFM定制系統顯微鏡是可進行明視野、暗視野、微分干涉、簡易偏光、熒光觀察的小型系統顯微鏡。

詳細摘要： 奧林巴斯BX53P 偏光顯微鏡無限遠校正的優勢UIS2光學系統防止了光學顯微鏡性能的降低，消除了對顯微鏡光學放大倍數的影響

詳細摘要： 奧林巴斯半導體/FPD檢測顯微鏡MX63/MX63L能夠提供zui大 300mm 晶圓、平板顯示器、印刷電路板、以及其他大型樣本的高品質觀察。

詳細摘要： 奧林巴斯BX53M正立金相顯微鏡除常規顯微鏡檢查的傳統襯度對比法，還可以解決以往很多使用傳統襯度對比法檢查時遇到的缺陷檢測方面的困難。

詳細摘要： 奧林巴斯光學數碼顯微鏡DSX510為了使顯微鏡的熟練操作人員能夠直觀完成操作，按照工作流程配置了必要按鈕等的模式。運用電動控制提高了操作速度。

詳細摘要： 奧林巴斯激光共聚焦顯微鏡OLS5000可觀察納米范圍的臺階，并可測量亞微米級別的高度差。還可以測量從線到面的表面粗糙度。

詳細摘要： 離子濺射儀MC1000采用磁控型電極，大限度地減輕對樣品的損壞。采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設定加工條件

詳細摘要： AL120晶圓搬送機可對應200mm以下晶圓尺寸的硅、化合物晶圓，可以安全高效搬送薄片晶圓，非常適合于前道到后道工程的晶圓檢查。