英國(guó)Emitech全自動(dòng)磁控離子濺射儀K550X具有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，它也可傾斜，適合各種樣品使用。預(yù)選擇參數(shù)及全自動(dòng)控制使得精確鍍層及重復(fù)范瘸粱獎(jiǎng)恪４諾綣馨惺褂玫偷繆?，可提高效率，K550X能得到精細(xì)的顆粒，由于是冷濺射，所以無(wú)需冷卻靶面或樣品臺(tái)。
腔室直徑為165 mm(6英寸)，非常方便裝載及移走樣品。
儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶（或用戶(hù)選擇），提供適合的性能價(jià)格比。可選靶材包括金/鈀，鉑/鈀和鉑。
功能集中在儀器面板上及即插即用電子學(xué)設(shè)計(jì)，的“up-time”，這些用戶(hù)友好設(shè)計(jì)滿足了不同學(xué)科的用戶(hù)需求。
濺射參數(shù)可被預(yù)先設(shè)置，包括氣體放氣針閥，此閥為電磁閥，一旦設(shè)置，它就不需要再調(diào)節(jié)。濺射頭互鎖，系統(tǒng)可容易選配K250鍍碳附件。本儀器為全自動(dòng)操作，可控制獨(dú)立的真空泵。

英國(guó)Emitech全自動(dòng)磁控離子濺射儀K550X的特點(diǎn)
1、全自動(dòng)控制
2、低電壓濺射
3、高分辨率精細(xì)涂層
(金顆?？蛇_(dá)2 nm)
4、具有傾斜葜玫奶厥廡?br /> 5、均勻厚度沉積
(掃描電鏡一般厚度為20nm 或200埃)
6、165 mm(6英寸)腔室

優(yōu)點(diǎn)
（1）易操作
（2）無(wú)需冷卻樣品臺(tái)
（3）精確的再次涂層
（4）適合各種樣品
（5）膜厚度重復(fù)性好
（6）容易裝載或卸載樣品
（7）可預(yù)設(shè)沉積厚度

英國(guó)Emitech全自動(dòng)磁控離子濺射儀K550X的技術(shù)參數(shù)
1、儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 重量:18公斤
2、工作腔室:硼硅酸鹽玻> 165mm Dia x 125mm H
3、安全鐘罩:聚碳酸酯
4、靶：60mm 直徑 x 0.1mm 厚(金作為標(biāo)準(zhǔn)靶面)
5、樣品臺(tái)直徑為50mm，靶面距離40mm,具有傾斜裝置的旋轉(zhuǎn)臺(tái)
6、真空范圍:ATM-1x10-2 mbar
7、濺射電流:0-50mA
8、沉積速率:0-25nm/分
9、濺射定時(shí): 0-4 分鐘
10、預(yù)設(shè)置針閥:控制氬
11、電源:230 伏 50Hz