SWC-4000單晶圓兆聲清洗機應用：

• 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
• Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
• CMP處理后的晶圓片清洗
• 晶圓框架上的切粒芯片清洗
• 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
• 帶保護膜的分劃版清洗
• 掩模版空白部位或接觸部位清洗
• X射線及極紫外掩模版清洗
• 光學鏡頭清洗
• ITO涂覆的顯示面板清洗
• 兆聲輔助的剝離工藝

SWC-4000單晶圓兆聲清洗機的特點：

• 支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
• 獨立系統
• 無損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉甩干
• 微處理機自動控制
• 化學試劑滴膠單元
• 溶劑與酸分離排廢
• 熱氮
• 30"D x 26"W 的占地面積

SWC-4000兆聲晶圓清洗機選配項：

• 掩模板或晶圓片夾具
• 臭氧清洗
• PVA軟毛刷清洗
• 高壓DI清洗
• 氮氣離子發生器

客戶可以根據基板尺寸的大小訂制不同的兆聲清洗系統，如有技術咨詢，請及時：

First-Nano的技術也適用于清洗背部以及帶保護膜掩模版前面的對準標記，降低這些掩模版的不必要去除和重做保護膜的幾率。它也可以用于去除薄膜膠黏劑的黏附性并準備表面以便再次覆膜。此外，帶薄膜掩模版的全部正面的兆聲清洗以及旋轉甩干可以做到無損并且對薄膜無滲漏。

SWC是一款帶有小占地面積的理想設備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。