mitsuwa高分子材料劣化評價裝置產(chǎn)品介紹

時間：2024/9/4閱讀：400

mitsuwa高分子材料劣化評價裝置產(chǎn)品介紹

東北電子產(chǎn)業(yè)株式會社制造的化學(xué)發(fā)光分析裝置

高分子材料在環(huán)境中逐漸氧化并開始劣化。
該裝置采用未有的方法對材料的氧化進行定量，從而可以定量評估氧化劣化。

如今，使用的回收料比原生料氧化程度更高，即使原材料相同，但由于工藝不同，成品性能也存在差異；即使生產(chǎn)批次和制造商不同，成品也因批次和制造商不同而存在差異。對于分析除耐候性以外的涉及氧化的因素（例如性能差異），這是一種非常有效的方法。

產(chǎn)品信息

測量原理

◆傳統(tǒng)的化學(xué)發(fā)光法通過捕獲人類不可見的光來檢測氧化劣化，主要在約數(shù)千小時后進行評估，直到達到設(shè)備可以檢測到的水平。
該設(shè)備最早可以在幾個小時后檢測到變化，具體取決于材料和惡化速度。

通過捕獲上面顯示的光發(fā)射，您可以獲得以下結(jié)果。

?通過在空氣中加熱樣品，過氧化物分解并檢測到“第一個峰”。該第一個峰對應(yīng)于測量時的過氧化物的量。
- 最終，它將達到平衡狀態(tài)。此時的強度稱為平衡發(fā)射強度（IS）。
- 如果樣品中添加了穩(wěn)定劑，穩(wěn)定劑會阻擋它，但一旦消耗掉，樣品本身就會氧化，發(fā)光強度會增加。
?第2個峰的起點被稱為氧化誘導(dǎo)時間（OIT），可以根據(jù)該OIT評價樣品的氧化穩(wěn)定性。還可以通過 IS（平衡發(fā)射強度）評估樣品的氧化穩(wěn)定性。

陣容

◆高靈敏度型

產(chǎn)品名稱/型號名稱	超弱發(fā)光檢測光譜儀 CLA-FS5	超弱發(fā)光檢測光譜儀 CLA-ID5
外部的
檢測方法	單光子計數(shù)法使用光電倍增管（Photomultiplier）
檢測波長	300nm至650nm（中心波長420nm）
冷卻方式	一次冷卻：帕爾貼元件二次冷卻：水冷
測量項目	①發(fā)光亮度（次/秒） ②發(fā)射光譜（380nm至660nm/20nm分辨率）	發(fā)射亮度（計數(shù)/秒）
最短測量時間（閘門時間）	0.1秒、1秒、10秒
光譜濾光片	內(nèi)置15張（380nm至660nm：每20nm）	沒有任何
觸摸屏顯示項目	① 發(fā)光量 ② 樣品室溫度 ③ 樣品室設(shè)定溫度 ④ 狀態(tài) ⑤ GateTime ⑥ 報警 ⑦詳情 ⑧樣品室開/關(guān)狀態(tài) ⑨快門開/關(guān)狀態(tài)
通訊功能	USB 端口 (1) 使用特殊程序
尺寸/重量	523.5(寬)×411.5(深)×547(高)毫米約60公斤	310（寬）×420（深）×524（高）毫米約35公斤

◆成像功能型

產(chǎn)品名稱/型號名稱	弱發(fā)光圖像測量裝置 CLA-IMG5	瞬時光譜測量裝置共軛SP3
外部的
檢測方法	背照式幀傳輸CCD相機
檢測波長	400-800nm（中心波長600nm）
冷卻方式	風(fēng)冷
有效像素數(shù)	1024 x 1024 像素	1600 x 200 像素
解決	空間分辨率：約150μm×150μm （選項：約10μm）	波長分辨率：約1nm
測量項目	發(fā)光圖像發(fā)射亮度（圖像選擇范圍內(nèi)）	發(fā)射光譜測量
接觸時間	30毫秒～120分鐘	0.01 至 10,000 秒
鏡片	25mm F0.95（C接口）	入口狹縫寬度：0.1/0.5/1.0mm
內(nèi)置快門	內(nèi)置機械快門	沒有任何
通訊功能	IEEE1394b	USB
尺寸/重量	310（寬）×446（深）×775（高）毫米約30公斤	310（寬）×420（深）×524（高）毫米約35公斤

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