芯片的發展離不開各種產業的，其中環保企業中的超純水制備是*的，同時芯片的緊缺也就促使了超純水設備的擴大生產。對于生產清洗的超純水，芯片行業是有很嚴格的要求，為了更好地提高高質量超純水，生產廠家也在不斷更新技術，更新設備，從而也推動了超純水制取技術的發展。

　　萊特萊德近幾年在生產超純水設備上也是不斷進步，對于半導體領域所需超純水供應項目也有著一定的實踐經驗。傳統的超純水處理工藝是單級/雙級反滲透設備+混床，其缺點是需要再生，不能連續制水，不僅工作效率低，也浪費了資源。

　　萊特萊德超純水制取工藝多采用反滲透設備+EDI+拋光混床，解決了傳統超純水生產過程中能耗大、步驟多、成本高、產品純度低和產品質量不穩定的問題，實現了連續化大規模生產，工藝流程簡單、配置合理有效、處理效率高，且具有經濟環保的優勢，確保所產水質可達國標《電子級水》和美標《電子和半導體超純水質標準》。設備實現了有效去除水中的雜質、重金屬離子、細菌等有害物質，同時還可大量連續供應超純水，滿足芯片生產用水的相關標準，降低企業生產的風險和成本。

　　近年來中國的芯片行業呈現蓬勃向上的發展，要想發展成為優秀的行業，就在自身技術出發才可以，未來萊特萊德希望能夠為用戶提供更優品質的超純水，更好的提升產品的良品率，助力芯片行業發展，實現“中國人，中國芯"!。