EDI超純水設備是專用于生產超純水的技術設備，采用了“雙級反滲透+EDI"的工藝設計，出水電阻率可達16 MΩ*cm(25℃)。雙級反滲透系統能夠將水中含有的雜質有效分離，這個處理過程主要借助反滲透膜孔徑小、孔隙率高的優勢，使微生物、金屬離子、礦物質等成分被膜截留，與超純水分離。

　　反滲透膜處理不需要高溫，工藝流程也比較短，操作十分簡單。它的運行以壓力為驅動力，并且自動化較強，無須人工力量干預。EDI技術是為超純水深度脫鹽的技術，該模塊處理無污染物析出，也不會產生酸堿廢液。EDI進水為二級反滲透產水，水質較好，脫鹽后濃水水質仍舊能夠優于一級反滲透產水，可回流至一級反滲透產水箱。

　　經過兩次反滲透系統處理和EDI脫鹽處理之后產生的超純水，基本不含任何金屬離子、有機物、細菌、微生物等雜質，僅保留氫原子和氧原子兩種成分。這種高純度的水一般多在工業生產中使用，比如半導體、制藥、航天零部件生產等，不但能提高產品質量，在清洗保養中也不會造成產品污染，使用價值很高。

　　列舉幾個可應用超純水參與生產的領域：

　　蓄電池電解液：利用超純水配制蓄電池電解液，可以避免水中含有的金屬離子對蓄電池導電性造成干擾;

　　微生物培養營養液：超純水水質好、純度高，配制營養液可以避免其含有雜質對微生物培養結果造成影響，保障實驗數據準確性;

　　硅晶圓清洗：硅晶圓是半導體生產中的基本原料，其清潔度與產品質量緊密相連。采用超純水清洗硅晶圓，基本不影響硅晶圓清潔質量，安全可靠。