上海伯東銷售維修德國 Pfeiffer 殘余氣體分析儀 HiCube RGA. 四極桿質譜 PrismaPro 與 HiCube 渦輪分子泵組的搭配, 質量數范圍 1-300, 高分辨率和靈敏度. 適用于殘余氣體分析, 過程監測, 泄漏檢測.上海伯東殘余氣體分析儀 Hicube RGA
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殘余氣體分析儀 Hicube RGA
上海伯東銷售維修德國 Pfeiffer 殘余氣體分析儀 HiCube RGA. 四極桿質譜 PrismaPro 與 HiCube 渦輪分子泵組的搭配, 質量數范圍 1-300, 高分辨率和靈敏度. 適用于殘余氣體分析, 過程監測, 泄漏檢測.
殘余氣體分析儀 Hicube RGA 優勢
殘余氣體分析和氦氣泄漏檢測模式
可用于從大氣壓至高真空環境
高分辨率和靈敏度
通過真空壓力監測保護燈絲
進氣系統帶集成式切斷閥
Pfeiffer 殘余氣體分析儀 Hicube RGA 技術規格
渦輪分子泵組 | HiCube™ Eco |
功耗 | 170W |
電壓（范圍） | 110 - 240 V; 50 / 60 Hz |
氮氣抽速 | 67 l/s |
前級泵在 50 Hz 時的泵送速度 | 1 m3/h |
極限真空 | <1X10-7 hPa |
真空計 | PKR 361 |
測量范圍 | 1X10-9 至 1X103 hPa |
閥門 | EVN 116 |
氣體流量 | 可調整, 自 5X10-6 至 3X103 hPa l/s |
進氣口 | DN 16 ISO-KF |
PrismaPro | QMG 250 F1 | QMG 250 F2 | QMG 250 F3 | QMG 250 M1 | QMG 250 M2 | QMG 250 M3 |
檢測器 | 法拉第 Faraday (F) | 電子倍增器/法拉第 C-SEM/Faraday (M) |
質量數 amu | 1–100 | 1–200 | 1–300 | 1–100 | 1–200 | 1–300 |
四極桿直徑／長度 | 6 /125 mm |
最小檢測極限 F hPa *1,2 | 4X10-13 | 5X10-13 | 7X10-13 | - | - | - |
最小檢測極限 M hPa *1,2 | - | - | - | 3X10-15 | 4X10-15 | 5X10-15 |
對Ar的靈敏度 F A/hPa*3 | 5X10-4 | 4X10-4 | 3X10-4 | 5X10-4 | 4X10-4 | 3X10-4 |
工作壓力 F hPa | 5X10-4 |
工作壓力 M hPa | - | - | - | 5X10-5 | 5X10-5 | 5X10-5 |
對臨近質量數的影響*1 | < 10 ppm | < 20 ppm | < 50 ppm | < 10 ppm | < 20 ppm | < 50 ppm |
操作溫度 分析 | 200 °C (max. 150 °C when operating with SEM) |
操作溫度 電子 | 5 – 50 °C |
烘烤溫度 分析 | 300 °C |
連接法蘭 | DN 40 CF-F |
保壓時間 | 1 ms – 16 s/amu |
峰比值可重復性 | ± 0.5 % |
接口 | 以太網 |
電源電壓 | 100–240 V AC，50/60 Hz |
HiCube™ RGA重量 | 25.5 - 26.2 kg |
殘余氣體分析儀 Hicube RGA 典型應用
殘余氣體分析: 對真空系統中殘余氣體的分析, 可以獲知在達到所需的最終壓力或調節要求時, 殘余物質的組成. 由此可以得出各種有關系統表面性質, 脫附行為, 純度和密封性以及工藝氣體成分的結論. 這將為您提供有關真空室或真空組件狀態的重要信息.
泄漏檢測: 上海伯東 Pfeiffer 殘余氣體分析儀 HiCube RGA 具有氦氣泄漏檢測模式, 可以通過軟件控制激活. 此功能可以方便您發現真空系統中的任何泄漏.
過程監控: HiCube RGA 可以在 300u 的測量范圍內隨時間觀察任意數量的選定質量強度, 并可對選定的各質量分配警報循環閾值. 如果它們高于或低于所需極限, 則可以通過數字輸出將信號提供給更高級別的控制系統. 因此殘余氣體分析儀 HiCube RGA 能夠提供實時過程觀察和控制功能. EVN 116 氣體計量閥還可以使真空系統中的壓力適應相應過程需求, 此外, 集成式切斷閥還允許對泄漏設定點進行快速開/關控制.
質量保證和過程優化: 諸如提供氣體成分定量測定, 確定過程氣體純度, 以及監測真空鍍膜過程相關氣體成分等能力, 殘余氣體分析儀 HiCube RGA 是過程記錄和質量保證中的重要工具. 即使測量正在執行, 所有測量值也會得到存儲, 并且可以在不停止測量的情況下追蹤. 即使仍在執行測量, 也可以導出測量結果以進行進一步分析.
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