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晶界是化學氣相沉積（CVD）方法制備的大面積石墨烯薄膜中普遍存在的缺陷。深入理解晶界對石墨烯的電學和熱學性質的影響對發展基于石墨烯的電子、光電和熱電器件具有重要意義。盡管目前對于單個晶界對石墨烯性質影響的研究較多，但宏觀尺度上晶粒尺寸對石墨烯電學和熱學性質的影響尚不清楚。其主要原因是基于傳統的析出（鎳基體）或表面吸附生長（銅基體）機制的CVD生長方法無法在大范圍內調控石墨烯的晶粒尺寸，制備晶粒尺寸小于電子和聲子平均自由程（約1微米）的小晶粒石墨烯尤為困難。

硅油及其溶液、油膏，養護劑基材為甲基硅油、甲基硅油及各種改性硅油等惰性線形高有機硅聚合物。

通常應用的硅油型養護劑是以硅油為主體組分，再添加甲苯、汽油等有機溶劑配制而成的硅油溶液。

以硅油添加白炭黑、硅藻土、云母粉等固體組分，混煉可制成半固體膏狀物型養護劑。

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很多潛在的工藝問題均與布局有關。化學機械平面化（ChemicalMechanicalPlanarization，CMP）中的凹陷和浸蝕、金屬版印刷的光學近似效應（OpticalProximityEffects）、蝕刻負載（EtchLoading）以及許多其他的工藝特性都隨著特征密度（FeatureDensity）而改變。過程工藝（ViaProcess）取決于主要層的特性，以及其本身的布局堆棧式（stacked）或非堆棧式（unstacked）。

例如，甲基氯硅烷、甲基乙氧基硅烷、氯硅烷、乙氧基硅烷等有機硅化合物，或上述有機硅烷溶于有機溶劑的有機硅烷溶液，涂覆于模具表面，即可形成抗茹結的工作膜。

有機硅烷直接用做養護劑具有一定的局限性，其中有機氯硅烷在成膜過程吸收空氣中的水分而水解，放出的*有腐蝕性，因此，只適用于玻璃、陶瓷等耐腐蝕的模具。

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貴州省污防處相關負責人，在*的資源開發中，貴州遺留了大量廢渣，而當初進行資源開發與利用的企業大多為瀕臨的老國有企業，無力承擔高昂的治理成本，并且，廢棄礦山或礦場地處邊遠山區，地方經濟相對落后，導致廢渣污染問題較復雜，也給部分地區生態環境帶來污染隱患。比如，銅仁市萬山區，曾經是輝煌的“中國都"。今天，在結構轉型、環保要求日益提高的形勢下，當地許多礦停產倒閉，留下漫山遍野的含廢渣。