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韋氏納米系統(深圳)有限公司
測量范圍 | 0KN | 測量精度 | 0 |
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美國NXQ以的性能,經濟的價格,深受用戶喜愛,截至2016年底,超過5000臺NXQ曝光系遍布*科研實驗室,研發中心。
NXQ4000系列半自動掩膜對準曝光系統,融合了du立的模塊化設計,精準控制對準和曝光等特點,自動程序控制使得該系統易于操作存儲和使用,適合實驗室多用戶使用。
該系統特點:
鍥型誤差補償系統----du特的WEC設計
紫外燈源的多樣性選擇
曝光光路的精準控制
視像分辨技術------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換
高效對準控制-----可選配IR或OBS雙面對準
使用領域(包括但不限于下述領域的光刻工藝)
微電子
LED/HBLED
3D IC /晶圓制造工藝
2.5D Interposer
MEMS
BioMEMS
微流控芯片
化合物半導體
太陽能(HCPV)
光電子
型號:
NXQ4006半自動型(可處理大6英寸基片)
NXQ4008半自動型(可處理大8英寸基片)
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