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韋氏納米系統(深圳)有限公司


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紫外掩膜對準曝光系統

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參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號NXQ4000

品       牌其他品牌

廠商性質代理商

所  在  地深圳市

聯系方式:劉先生查看聯系方式

更新時間:2018-09-14 15:58:20瀏覽次數:327次

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經營模式:代理商

商鋪產品:31條

所在地區:廣東深圳市

聯系人:劉先生 (總經理)

產品簡介
測量范圍 0KN 測量精度 0

美國NXQ以的性能,經濟的價格,深受用戶喜愛,截至2016年底,超過5000臺NXQ曝光系遍布*科研實驗室,研發中心。

詳細介紹

NXQ4000系列半自動掩膜對準曝光系統,融合了du立的模塊化設計,精準控制對準和曝光等特點,自動程序控制使得該系統易于操作存儲和使用,適合實驗室多用戶使用。

該系統特點:

  • 鍥型誤差補償系統----du特的WEC設計

  • 紫外燈源的多樣性選擇

  • 曝光光路的精準控制

  • 視像分辨技術------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換

  • 高效對準控制-----可選配IR或OBS雙面對準

 

使用領域(包括但不限于下述領域的光刻工藝)

    • 微電子

    • LED/HBLED

    • 3D IC /晶圓制造工藝

    • 2.5D Interposer

    • MEMS

    • BioMEMS

    • 微流控芯片

    • 化合物半導體

    • 太陽能(HCPV)

    • 光電子

  •  

  •  

 

型號:

  • NXQ4006半自動型(可處理大6英寸基片)

  • NXQ4008半自動型(可處理大8英寸基片)

關鍵詞:芯片

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