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行業(yè)產(chǎn)品

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韋氏納米系統(tǒng)(深圳)有限公司


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紫外掩膜曝光機 Model 200

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號Model 200

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地深圳市

聯(lián)系方式:劉先生查看聯(lián)系方式

更新時間:2018-09-14 14:17:36瀏覽次數(shù):626次

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經(jīng)營模式:代理商

商鋪產(chǎn)品:31條

所在地區(qū):廣東深圳市

聯(lián)系人:劉先生 (總經(jīng)理)

產(chǎn)品簡介
測量范圍 0KN 測量精度 0

OAI 200型光刻機 和紫外曝光系統(tǒng)
OAI系統(tǒng)可以處理各種常規(guī)和不規(guī)則形狀的寬范圍的基材。
高效光源在各種光譜上提供均勻的紫外線照射。.

詳細(xì)介紹

OAI 200型光刻機和紫外線曝光系統(tǒng)是一種經(jīng)濟高效的高性能工具,采用行業(yè)驗證的模塊化組件進(jìn)行設(shè)計,使OAI成為MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的*者。200型是臺式機型,需要小的潔凈室空間。它為研發(fā),試驗或小批量生產(chǎn)提供了經(jīng)濟的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空卡盤校平系統(tǒng),基板被快速和平緩地平整以用于平行光掩模對準(zhǔn)和在接觸暴露期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)具有微米分辨率和對準(zhǔn)精度。對準(zhǔn)模塊具有掩模插入件組和快速更換晶片卡盤,其允許使用各種襯底和掩模,而不需要對機器重新設(shè)定。對準(zhǔn)模塊包含X,Y和θ軸(微米)。200型對準(zhǔn)器可以廣泛地安裝進(jìn)對準(zhǔn)光學(xué)儀器,包括背面IR。 IR照明真空吸盤可以被配置用于整個或或部分晶片的對準(zhǔn)。 OAI 200型可配置OAI納米壓印模塊,使其成為低成本的NIL工具。 OAI還提供了一個模塊,設(shè)計用于使用液體光引物進(jìn)行快速成型或生產(chǎn)微流體器件。 Model 200具有可靠的OAI光源,在近紫外或深紫外線下使用200至2000瓦功率的燈提供準(zhǔn)直的紫外光。雙傳感器,光學(xué)反饋回路與恒定強度控制器相關(guān)聯(lián),以提供在所需強度的±2%內(nèi)的曝光強度的控制??梢院唵慰焖俚馗淖僓V波長。

 

OAI 200型是一個高度靈活的,經(jīng)濟的解決方 案,適合任何        入門級掩模對準(zhǔn)和紫外線照射應(yīng)用。

關(guān)鍵詞:傳感器

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