電子光學(xué)超純水設(shè)備

半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線(xiàn)寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

電子光學(xué)超純水設(shè)備的脫鹽核心部件為進(jìn)口反滲透膜組件，超純水系統(tǒng)設(shè)備通常由預(yù)處理部分，反滲透主機(jī)部分，后處理部分共同組成。

1、預(yù)處理由石英砂過(guò)濾器、活性碳過(guò)濾器、全自動(dòng)軟水器、精密過(guò)濾器組成(我司采用全自動(dòng)控制閥頭)，也可選用超濾系統(tǒng)作為預(yù)處理，但通常工程造價(jià)要高。預(yù)處理主要目的是去除原水中含有的泥沙，鐵銹、膠體物質(zhì)、懸浮物、色度、異味、生化有機(jī)物。當(dāng)原水中硬度較高時(shí)，可選擇全自動(dòng)軟水器，這樣有效的保護(hù)了反滲透膜，從而延長(zhǎng)了反滲透膜的使用壽命。

2、反滲透主機(jī)主要由高壓泵、膜殼、進(jìn)口反滲透膜組件，在線(xiàn)儀表、控制電氣等組成。只要膜的數(shù)量及泵的型號(hào)選型得當(dāng)，反滲透主機(jī)脫鹽率及產(chǎn)水量都能達(dá)到額定指標(biāo)，出水電導(dǎo)率可保證在≤10us. CM以下，(原水電導(dǎo)率小于500us/cm,工作溫度:1~40℃)

3、后處理部分是對(duì)反滲透制取的純水作進(jìn)一步的深化處理以制取超純水，通常是離子交換混床設(shè)備或EDI設(shè)備，根據(jù)客戶(hù)要求，出水阻率可達(dá)到18.2MΩ.CM，如果是應(yīng)用在直飲水工藝上，則加上殺菌裝置即可，通常為紫外線(xiàn)殺菌器或者臭氧發(fā)生器，從而使生產(chǎn)出來(lái)的水達(dá)到直飲標(biāo)準(zhǔn)。

交換反應(yīng)在模組的純化學(xué)室進(jìn)行，在那里陰離子交換樹(shù)脂用它們的氫氧根據(jù)離子(OH)來(lái)交換溶解鹽中的陰離了(如氯離子Cl)。相應(yīng)地，陽(yáng)離子交換樹(shù)脂用它們的氫離子(H)來(lái)交換溶解鹽中的陽(yáng)離子(如Na)。

在位于模組兩端的陽(yáng)極(+)和陰極(-)之間加一直流電場(chǎng)。電勢(shì)就使交換到樹(shù)脂上的離子沿著樹(shù)脂粒的表面遷移并通過(guò)膜進(jìn)入濃水室。陽(yáng)極吸引負(fù)電離子(如OH，CI)這些離子通過(guò)陰離子膜進(jìn)入相臨的濃水流卻被陽(yáng)離子選擇膜阻隔，從而留在濃水流中。陰極吸引純水流中的陽(yáng)離子(如H，Na)。這些離子穿過(guò)陽(yáng)離子選擇膜，進(jìn)入相臨的濃水流卻被陰離子膜陰隔，從而留在濃水流中。當(dāng)水流過(guò)這兩種平行的室時(shí)，離子在純水室被除去并在相臨的濃水流中聚積，然后由濃水流將其從模組中帶走。在純水及濃水中離子交換樹(shù)脂的使用是ElectropupreEDI技術(shù)和的關(guān)鍵。一個(gè)重要的現(xiàn)象在純水室的離子交換樹(shù)脂中發(fā)生。在電勢(shì)差高的局部區(qū)域，電化學(xué)反應(yīng)分解的水產(chǎn)生大量的H和OH。在混床離子交換樹(shù)脂中局部H和OH的產(chǎn)生使樹(shù)脂和膜不需要添加化學(xué)藥品就可以持續(xù)再生。