就鍍膜工藝而言，真空技術的應用體現在哪些方面？

在許多鍍膜工藝中（例如：金屬、塑料或玻璃以蒸汽形態沉積），真空技術扮演著決定性的作用。在很多情況下，離開真空，就無法實現這些工藝。一般在工藝開始之初，對腔室施加中度或高度真空，以便真空排氣，再抽除反應氣體或者氣化固體原材料。

這些鍍膜工藝都有一個共同的要求：腔室必須保持*符合鍍膜工藝要求的中度或高度真空。這些鍍膜工藝有助于改變材料的表面特征，例如硬度或耐腐蝕性。此外，真空鍍膜也可以改善材料的附著性或濕潤性，或者讓材料表面保持大疏水性或親水性。

普諾克真空泵的哪些真空解決方案尤其適合鍍膜工藝？

我們提供大量不同的鍍膜工藝真空解決方案，除了獨立式真空泵，也供應全套真空系統。C單級旋片真空泵特別適用于鍍膜工藝，實踐證明，普諾克旋片真空泵結合羅茨真空泵是中度真空鍍膜應用的標準解決方案。普諾克真空科技還可提供各種型號的變距螺桿真空泵和羅茨真空泵，使真空系統的設計*達到鍍膜工藝的要求。如果需要高度真空，我們有渦輪分子真空泵和擴散真空泵，將這類泵與前級泵組合即可滿足鍍膜工藝要求。

在鍍膜工藝中的應用范例：

物理氣相沉積（PVD）

化學氣相沉積（CVD )

等離子增強沉積

金屬鍍膜