詳細摘要： 真空卷繞晶化設備真空設備集成1、真空室內腔尺寸：寬×高×深：1950×1050×750（mm）2、極限真空：1.3...
產品型號：W-JR2000所在地：北京市更新時間：2025-06-03 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
北京維意真空技術應用有限責任公司
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詳細摘要： 真空卷繞晶化設備真空設備集成1、真空室內腔尺寸：寬×高×深：1950×1050×750（mm）2、極限真空：1.3...
產品型號：W-JR2000所在地：北京市更新時間：2025-06-03 在線留言
詳細摘要： 脈沖激光沉積真空鍍膜設備 用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。設備組成系統主要由濺射真...
產品型號：PLD-450所在地：北京市更新時間：2025-06-03 在線留言
詳細摘要： 真空熱壓爐真空設備集成本電爐為周期作業式，廣泛應用于硬質合金、功能陶瓷、粉末冶金等在高溫、高真空條件下進行熱壓燒結處理，也可在充氣保護情況下熱壓成形燒結。
產品型號：W-RY10所在地：北京市更新時間：2025-06-03 在線留言
詳細摘要： 源瓶鼓泡器真空配件銷售維意真空ALD/MO*** （起泡器）用于固態、液態及氣態超純物料類的封裝，涉及微正壓、常壓、中低壓的危險化學品，所以對的安全性和潔凈度提...
產品型號：ALD所在地：北京市更新時間：2025-06-03 在線留言
詳細摘要： PE-ALD等離子增強原子層沉積真空鍍膜設備是專門為特殊應用領域的科學研究與工業開發用戶而設計的單片沉積系統，系統電氣*符合CE標準；該系統擴展了普通原子層沉積...
產品型號：PE-CVD所在地：北京市更新時間：2025-06-03 在線留言
詳細摘要： 源瓶加熱器真空配件銷售柔性可拆卸式設計，根據承受溫度和使用環境的不同選擇相應的內外層和中間保溫隔熱層材料,保證保溫隔熱套能夠承受在盡量大的溫度范圍內使用,能夠具...
產品型號：W-ALD300所在地：北京市更新時間：2025-06-03 在線留言
詳細摘要： 管道加熱器真空配件銷售柔性可拆卸加熱器采用耐高低溫、防火保溫材料；有內襯、中間保溫層、外保護層三層組成；根據管道或設備的具體形狀及其使用環境，經過精心設計、測繪...
產品型號：W-R300所在地：北京市更新時間：2025-06-03 在線留言
詳細摘要： 真空閥門真空配件銷售北京維意真空技術應用有限責任公司，主體經營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分，是北京從事真空產品設計、制造、銷售、維修、保...
產品型號：6LVV-ALD所在地：北京市更新時間：2025-06-03 在線留言
詳細摘要： 化學氣相沉積真空鍍膜設備北京維意真空技術應用有限責任公司創立于2013年6月，主體經營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分，是北京從事真空產品設...
產品型號：CVD所在地：北京市更新時間：2025-06-03 在線留言
詳細摘要： 手動磁控濺射鍍膜機真空鍍膜設備具備以下幾個優點：1、目前高校包括研究所的實驗室面積都比較緊張，所以此款小型磁控濺射鍍膜機緊湊的設計更為合適;2、配置3個3英寸可...
產品型號：MS-D450所在地：北京市更新時間：2025-06-03 在線留言
詳細摘要： 自動化磁控濺射鍍膜機真空鍍膜設備具備以下幾個優點： 1、目前高校包括研究所的實驗室面積都比較緊張，所以此款小型磁控濺射鍍膜機緊湊的設計更為合適; 2、配置3...
產品型號：MS-350所在地：北京市更新時間：2025-06-03 在線留言
詳細摘要： 小型熱蒸發鍍膜機真空鍍膜設備，主要特點是設備體積小，結構簡單緊湊易于操作，也可整機放置于手套箱內，對實驗室供電要求低;該系列設備主要部件采用進口或者國內的配置，...
產品型號：EV-246所在地：北京市更新時間：2025-05-30 在線留言
詳細摘要： 手套箱一體熱蒸發鍍膜機真空鍍膜設備1.金屬薄膜沉積與器件封裝、檢測用手套箱1臺： 1.1箱體尺寸：雙工位手套箱，長度約1800mm。箱體預留鍍膜機接口法蘭，手...
產品型號：SEV-400所在地：北京市更新時間：2025-05-30 在線留言
詳細摘要： 非標鋁合金真空腔室定制北京維意真空技術應用有限責任公司有全自動數控加工中心、數控車床等設備,主要產品:非標鋁合金真空腔體,鍍膜機腔體,不銹鋼真空腔體加工,真空爐...
產品型號：W-LQS450所在地：北京市更新時間：2025-05-30 在線留言
詳細摘要： 真空鍵合機真空設備集成設備由加壓力系統，壓力控制系統，加熱系統，真空系統，氣路系統，電氣控制系統
產品型號：W-JH200所在地：北京市更新時間：2025-05-30 在線留言
詳細摘要： 非標不銹鋼真空室加工常見真空腔體技術性能：材質：不銹鋼、鋁合金等腔體適用溫度范圍：-190℃~+1500℃(水冷)密封方式：氟膠O型圈或金屬無氧銅圈
產品型號：W-FB350所在地：北京市更新時間：2025-05-30 在線留言
詳細摘要： 等離子增強化學氣相沉積真空鍍膜設備PECVD系統就是為了使傳統的化學氣象沉積(CVD)反應溫度降低，在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應裝置將反應氣體電離，形...
產品型號：PE-CVD所在地：北京市更新時間：2025-05-30 在線留言
詳細摘要： ALD原子層沉積真空鍍膜設備T-ALD原子層沉積系統是專門為科研和工業小型化量產用戶而設計的多片沉積系統。該系統電氣符合CE標準，廣泛應用于微電子、納米材料、光...
產品型號：T-ALD所在地：北京市更新時間：2025-05-30 在線留言
詳細摘要： 小型桌面高低溫真空探針臺真空設備集成溫度范圍：-190～400℃；溫度穩定性：±0.1℃；升降溫速度：0～30℃/min（勻速）；樣品臺：20?20m...
產品型號：W-XTZ4所在地：北京市更新時間：2025-05-29 在線留言
詳細摘要： 真空探針臺真空設備集成高低溫真空腔探針系統主要用于為被測芯片提供一個低溫或者高溫的變溫測量環境，以便測量分析溫度變化時芯片性能參數的變化。腔體內被測芯片在真空環...
產品型號：W-TZ4所在地：北京市更新時間：2025-05-29 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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