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20立方制氧設(shè)備

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更新時(shí)間：2022-07-15 15:50:18瀏覽次數(shù)：371次

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杭州鼎岳空分設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

20立方制氧設(shè)備采用優(yōu)質(zhì)沸石分子篩為吸附劑，利用變壓吸附原理，直接從壓縮空氣中獲取氧氣。

工作原理：◆ 質(zhì)后進(jìn)入裝有沸石分子篩的吸附塔，空氣中的氮?dú)狻⒍趸肌⑺羝缺环肿雍Y大量吸附而氧氣而因?yàn)閿U(kuò)散速率大而穿過(guò)吸附劑而實(shí)現(xiàn)分離。
◆ 當(dāng)吸附塔內(nèi)吸附的氮等雜質(zhì)達(dá)到一定程度后，降低壓力使沸石分子篩解吸，使吸附劑再生，得以重復(fù)循環(huán)使用。

詳細(xì)介紹

20立方制氧設(shè)備采用優(yōu)質(zhì)沸石分子篩為吸附劑，20立方制氧設(shè)備利用變壓吸附原理，20立方制氧設(shè)備直接從壓縮空氣中獲取氧氣。

工作原理：◆ 質(zhì)后進(jìn)入裝有沸石分子篩的吸附塔，空氣中的氮?dú)狻⒍趸肌⑺羝缺环肿雍Y大量吸附而氧氣而因?yàn)閿U(kuò)散速率大而穿過(guò)吸附劑而實(shí)現(xiàn)分離。
◆ 當(dāng)吸附塔內(nèi)吸附的氮等雜質(zhì)達(dá)到一定程度后，降低壓力使沸石分子篩解吸，使吸附劑再生，得以重復(fù)循環(huán)使用。

技術(shù)特點(diǎn)
1、采用制氧新工藝，不斷優(yōu)化裝置設(shè)計(jì)，降低能耗與投資資本。
2、智能聯(lián)鎖的氧氣排空裝置，保證產(chǎn)品氧氣質(zhì)量。
3、*的分子篩保護(hù)裝置，延長(zhǎng)沸石分子篩的使用壽命。
4、完善的流程設(shè)計(jì)，*的使用效果。
5、可選配氧流量，純度自動(dòng)調(diào)節(jié)系統(tǒng)，遠(yuǎn)程監(jiān)控系統(tǒng)等。
6、操作簡(jiǎn)便，運(yùn)行穩(wěn)定，自動(dòng)化程度高，可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人運(yùn)行。
技術(shù)指標(biāo)
氧氣產(chǎn)量：3-200Nm3/h
氧氣純度：90-95%
氧氣壓力：0。1-0.3MPa
露點(diǎn)：≤-48℃（常壓下