污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
邁可諾技術有限公司
適用 | i、g和h線等 |
---|
德國Micro Resist公司創立于1993年.公司生產的高性能各種用于微納制作的光刻膠,除了生產用于i、g和h線的光刻膠以外,還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。
德國Micro Resist公司創立于1993年.公司生產的高性能各種用于微納制作的光刻膠,除了生產用于i、g和h線的光刻膠以外,還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。
IPNR-T1000 Thermoplastic nanoimprint resist 熱塑型納米壓印膠
分辨率低于10nm
低壓力壓印(< 20 bar)
低溫壓力(< 100 ℃)
IPNR-T2000 Thermal curable nanoimprint resist 熱固化型納米壓印膠
分辨率低于10nm
低壓力壓印(< 1 bar)以及低固化溫度(< 100 ℃)
熱固化時間短(< 60 s)
高氧等離子體刻蝕電阻
均一的膜厚度
IPNR-PC1000 Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation) 光固化型納米壓印(自由基引發)
丙烯酸酯官能化聚硅氧烷抗蝕劑
真空或者氮氣氣氛下操作
低于10nm的分辨率
低壓力壓印以及超快固化時間(< 10 s)
低紫外照射量
高氧等離子體刻蝕電阻
均一的膜厚度
IPNR-PC2000 Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation) 光固化納米壓印蝕劑(陽離子引發)
乙烯基醚官能化聚硅氧烷抗蝕劑
空氣氣氛下操作
分辨率低于10nm
低壓力壓印(< 1 bar)以及超快固化時間(< 1 bar)
低紫外照射量
高氧等離子體刻蝕電阻
均一的膜厚度
IPNR-UL1000 Under-layer polymer 舉離型傳遞層材料
熱塑聚合物發送過程
強粘附抗蝕劑層以及材料
IPNR-UL2000 Under-layer polymer 刻蝕型傳遞層材料
熱固性聚合物刻蝕面罩過程
強粘附抗蝕劑層以及材料
IPNR-UPM Quick mold fabrication material 快速模板制作材料
快速而簡單的塑造材料
高分辨率以及低成本
化良好的學性以耐溫性
塑造優良的附著力基板
可靠的脫模性
IPNR-AP Chlorosilane based adhesion promoter 氯硅烷增粘劑
促進和基材之間的附著力
氣相或者液相處理
產品相關關鍵字: 光刻膠 納米光刻膠 納米壓印光刻膠 |
您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
環保在線 設計制作,未經允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
請輸入你感興趣的產品
請簡單描述您的需求
請選擇省份