一、光離子除臭技術原理
光離子除臭設備是集UV光解技術與低溫等離子體技術的優點于一體的惡臭氣體治理設備，兩種技術協同作用，達到更好的處理效果。
1、UV光解原理：
利用特制的高能高臭氧UV光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOCs類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵， 同時空氣中的氧分子被分解成游離氧，即活性氧，因游離氧不穩定需與氧分子結合，產生臭氧。UV＋O2→O-+O＊(活性氧) O＊+O2→O3(臭氧),臭氧對有機物具有*的氧化作用，再通過臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應，使呈游離狀態的單分子被臭氧氧化結合成小分子無害或低害的化合物，如CO2、H2O等。
另外，高能UV紫外線光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧氧化，*達到脫臭及殺菌的目的。
2、低溫等離子體原理：
通過外加電壓，當達到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產生各種高強度、高電能的活性物質，包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。由于UV光解對于一些能量較高分子鍵未能有效裂解，所以將UV光解區后未分解的惡臭氣體分子與這些高能電子、自由基等活性粒子作用，使惡臭氣體分子在極短的時間內發生分解，同時，在強電場作用下產生的臭氧具有*的氧化能力，使惡臭分子zui終被氧化分解成二氧化碳、水及其他低害物質。
光離子除臭設備是光氧化-等離子組合設備，是一種復合氧化設備，在外加UV光源的加強照射下，可促使等離子體產生的大量中性基團離子以及有害氣體分子發生反應，即在等離子發射器及紫外光源發出等離子體和高能光子的共同作用下，設備內部發生等離子體裂解反應、UV紫外光解反應，臭氧氧化反應及協同氧化反應等復雜的過程，有效降解大分子有機物質，經過一系列復雜的氧化還原反應后zui終生成小分子化合物CO2和H2O。
二、設備優勢
1、優勢互補：集UV光解與低溫等離子體技術于一體，先通過UV光解將大部分的分子化學鍵斷裂，同時產生大量臭氧，使惡臭氣體被氧化分解。惡臭氣體中部分分子的化學鍵鍵能較高，導致UV光解未能分解。而低溫等離子體技術對于低濃度惡臭氣體有很好的處理效果，所以采用低溫等離子體對未分解的分子進一部降解，將惡臭氣體*氧化分解。
2、除臭：一次性凈化效率高，能同時凈化多種污染物，無需添加任何物質，二次污染。
3、適應性強：等離子體光解設備可適應高濃度，大氣量，不同工業廢氣物質的脫臭、凈化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可靠。
4、操作方便：模塊化設計，便于取出檢修和清理。
5、進口材料制造：防火、防腐蝕性能高，設備性能安全穩定，采用不銹鋼材質，設備使用壽命在十五年以上。
三、適用范圍：
離子除臭設備主要用于噴漆車間、油墨印刷、噴涂車間、化工、醫藥、橡膠、食品、印染、釀造、造紙、煉油廠、污水處理廠、垃圾轉運站等產生的有毒有害惡臭氣體治理。
