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DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC 氣動電磁閥

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號MBC5000-1011-1CB04

品       牌其他品牌

廠商性質經銷商

所  在  地上海市

更新時間:2025-05-07 17:48:47瀏覽次數:802次

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標準 其他 材質
工作溫度 常溫 公稱通徑 20mm
類型 直通式 連接形式 螺紋
零部件及配件 定位器 流動方向 換向
適用介質 水,蒸汽,油品,各種高腐蝕化學介質,弱酸堿介質,氨氣,氮氣,氧氣,氫氣,液化氣,空氣,煤氣,含塵氣體 形態 柱塞式
壓力環境 常壓 用途 儀表
DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC
真空熱處理是指將工件置于真空中進行的熱處理工藝。真空熱處理在加熱中不產生氧化、脫碳及其他腐蝕

DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC

真空熱處理是指將工件置于真空中進行的熱處理工藝。真空熱處理在加熱中不產生氧化、脫碳及其他腐蝕,而且具有凈化表面脫油除脂的作用。在真空中能將材料在冶煉過程中吸收的氫、氮和氧扽氣體脫出,提高材料的質量和性能。如:將W18Cr4V制作的超高壓針閥進行真空熱處理后,有效地增加了針閥的沖擊任性,同時提高了力學性能和使用壽命。

表面強化處理

為了提高零件的性能,除了改變材質以外,更多的是采用表面強化處理方法。如表面淬火(火焰加熱、高中頻加熱表面淬火、接觸電加熱表面淬火、電解液加熱表面淬火、激光電子束加熱表面淬火等)、滲碳、氮化、氰化、滲硼、滲金屬(TD法)、激光強化、化學氣相沉積(CVD法)、物理氣相沉積(PVD法)、等離子體化學氣相沉積(PCVD法)等離子噴涂等。

物理氣相沉積(PVD法)

在真空中應用蒸鍍、離子鍍、濺射等物理方法產品金屬離子,這些金屬離子在工件表面沉積,形成金屬涂層,或與反應器反應形成化合物涂層,這種處理工藝方法稱為物理氣相沉積,簡稱PVD法。此方法沉積溫度低,處理溫度400~600℃,變形小,對零件的基體組織及性能影響小。利用PVD法在W18Cr4V制造的針閥上沉積TiN層,而TiN層有的硬度(2500~3000HV)和高耐磨性,提高了閥門抗腐蝕性,在稀的鹽酸、硫酸、硝酸中不受侵蝕,能保持光亮表面。PVD處理后覆蓋層精度很好。可研磨拋光,其表面粗糙度為Ra0.8µm,拋光后可達到0.01µm。

DANFOSS高壓閥180L1012-VDHTED3/4NC


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