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MD40-12-低溫恒溫循環槽（-40℃～90℃）提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確...

加熱制冷浴槽（-30℃～90℃），MD30-100可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥、半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和...

低溫恒溫液槽（-10℃～90℃）提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度&...

MD30-30加熱制冷浴槽（-30℃～90℃），容積30L，控溫范圍-30℃～90℃，用于石油化工、制藥及半導體工業等領域低溫測量與檢定，樣品保存等浸入式實驗或...

低溫恒溫循環槽 MD20-20可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量...

低溫冷卻液循環泵（-20℃～室溫）低溫冷卻循環裝置采用PID微機智能控制系統，全封閉壓縮機制冷，主要有壓縮機、冷凝器、節流閥、換熱器、循環泵幾大件組成，具有提供...

低溫恒溫槽MD10-20低溫恒溫水槽提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動...

低溫恒溫槽MD10-30低溫恒溫水槽提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動...

大容量加熱制冷浴槽MD30-100，容積100L，控溫范圍：-30℃～90℃（高至溫度100℃），可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于-3...

MD60-8-超低溫恒溫槽（-60℃～90℃）提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制...

MD40-30-加熱制冷循環器（-40℃～90℃）提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確...

MD10-4低溫恒溫水槽（-10℃～90℃）提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，...

MD5-12低溫恒溫循環槽（-5℃～90℃）提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，...

MD80-8超低溫加熱制冷器（-80℃～90℃），應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環...

低溫恒溫水槽-5℃～90℃，MD5-30提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫...

低溫恒溫循環槽MD10-8低溫恒溫槽提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動...

低溫恒溫循環槽（-20℃～90℃）可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫...

低溫恒溫循環槽（-20℃～90℃），MD20-12，容積12L，控溫范圍-20℃～90℃，高至溫度100℃，作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，...

超低溫加熱制冷器（-80℃～90℃）超低溫加熱制冷器應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循...

超低溫恒溫槽（-60℃～90℃）應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環應用，可以提供熱冷...