ImageMaster Universal光學傳遞函數測量儀，高精度，全波段，全自動測量
ImageMaster Universal光學傳遞函數測量儀由全歐光學(TRIOPTICS)設計打造，是其公司下性能的產品，可以測量幾乎所有的光學系統的參數，同時具有高精度，高分辨率，全波段以及全自動的測量效果，可測量的對象包括有高性能相機鏡頭，瞄準裝置等等
ImageMaster Universal光學傳遞函數測量儀的技術規格
| 技術規格 | 描述 |
| 系統配置 | 無限-有限共軛系統、有限-有限共軛系統、無焦系統 |
| 離軸角度 | ±120°（可擴展至±180°） |
| 光譜范圍 | UV：250 nm-450 nm VIS：450 nm-700 nm NIR：700 nm-1000 nm SWIR：1000 nm-2500 nm MWIR：3 um-5 um LWIR：7 um- 13 um |
| 樣品焦距范圍 | 5 mm-2000 mm（可擴展） |
| 通光口徑 | 450 mm（可擴展） |
| 測量方位角 | 360° |
| 圖像高度 | ±50 mm |
| 空間頻率 | UV: 100 lp/mm VIS / NIR: 500 lp/mm SWIR: 120 lp/mm MWIR: 80 lp/mm LWIR: 60 lp/mm |
| MTF測量精度 | ±0.02 MTF 軸上 ±0.03 MTF 軸外 |
| MTF測量重復性 | ±0.01 MTF |
| EFL測量精度 | ±0.2 % |
| 畸變測量精度 | ±0.7 % 無編碼器 ±0.25 % 帶編碼器 |
| 畸變測量重復性 | ±0.3 % 無編碼器 ±0.1 % 帶編碼器 |
| 橫向色差測量精度 | ±0.5 um |
| 橫向色差測量重復性 | ±0.3 um |
| 縱向色差測量精度 | ±1 um |
| 縱向色差測量重復性 | ±0.2 um |
| CRA測量精度 | ±1° |
| CRA測量重復性 | ±0.4° |
| FFL（相對值）測量精度 | ±2 um |
| FFL（相對值）測量重復性 | ±1 um |
| 散光測量精度 | ±4 um |
| 散光測量重復性 | ±1 um |
| 場曲率測量精度 | ±2 um |
| 場曲率測量重復性 | ±1 um |
研發型高精度光學傳遞函數測量儀的空間頻率可以能隨著被測樣品和光管的焦距比而變化
德國全歐光學(TRIOPTICS)設計、生產的ImageMaster Universal光學傳遞函數測量儀是ImageMaster光學傳遞函數測量儀系列中的產品，可以測量幾乎所有類型光學系統的光學參數。
高精度光學傳函儀ImageMaster使用高精度、長壽命的零部件，采用創新設計的臥式結構，更加使用于中型和更大的鏡頭檢測。例如相機鏡頭的制造和用于空間探索的航空鏡頭或透鏡的開發。臥式結構的高精度光學傳遞函數測量儀ImageMaster Universal提供ImageMaster光學傳遞函數測量儀系列中的精度和極大的穩定性。
研發型高精度光學傳遞函數測量儀提供了較好的圖像質量和較高信噪比的高分辨率光學傳遞函數測量儀。全歐光學作為的光學檢測設備制造廠商，始終保證光學傳函儀的測量結果符合國際標準的可追溯性。
ImageMaster Universal高精度光學傳遞函數測量儀
研發型高精度光學傳遞函數測量儀的測量參數：
-軸上光學傳遞函數MTF
-軸外光學傳遞函數MTF
-離焦光學傳遞函數MTF
-有效焦距EFL
-相位傳遞函數PTF
-線擴散函數LSF
-點擴散函數PSF
-主光束角度
-相對透過率
-相對照度
-視場角
-畸變
-像散
-色差
-焦深
-場曲
-F數
高精度光學傳函儀ImageMaster的產品特點：
-臥式結構，全自動測量
-可測量直線構型系統、L形構型系統、U形構型系統、空間折轉型系統等
-模塊化設計、一體化運輸、維護保養方便
-平行光管基于離軸拋物面反射鏡的設計，覆蓋全波段使用。
-整機配置鋁制外殼，隔光擋風
-模塊化靶標發生器以及探測器，可快速切換
-測量精度可溯源至國際標準
-軟件模塊化，使用簡單易懂
-可編輯腳本，實現用戶自定義測量
-直接以報告形式輸出結果
-高分辨率光學傳遞函數測量儀
