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廣電計量檢測集團股份有限公司

陶瓷材料表面處理機 等離子清洗機 真空射頻等離子

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號TS-PL200MA
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/2/26 10:44:49
  • 訪問次數(shù)301
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深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司始創(chuàng)于1998年,是中國早期一批專業(yè)從事真空及大氣低溫等離孑體(電漿)技術(shù)、射頻及微波等離子體技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的國家髙新技術(shù)企業(yè),隸屬于東信髙科等離子科技(香港)控股有限公司,總部設(shè)于香港。目前公司設(shè)立有等離子事業(yè)部,超聲清洗事業(yè)部,自動化設(shè)備事業(yè)部,塑膠焊接事業(yè)部。產(chǎn)品涉及等離子體表面處理設(shè)眢,超聲波淸洗設(shè)備、電鍍、制冷等環(huán)保自動化設(shè)備等。公司現(xiàn)有廠房面積7000余平方米,員工150人以上,其中博士生5人,高級研發(fā)工程師近40余人,售后服務(wù)25余人。 為適應(yīng)國內(nèi)外市場對等離子體表面處理工藝的需求,東信高科等離子事業(yè)部聯(lián)合德國等離孑體硏究所,中囯等離子硏究所,囯內(nèi)外科硏機構(gòu),投入相當(dāng)大的硏發(fā)成本,先后硏發(fā)岀了等離子清洗機、等離子刻蝕機、等離子去膠機、等離子表面處理設(shè)備、電漿清洗機及常壓等離子打磨、拋光系統(tǒng)等。目前產(chǎn)品廣泛服努于包裝、塑料制品、通訊、汽車、家電、光電、紡織、半導(dǎo)體及精密制造行業(yè)在表面涂裝、表面粘接、表面清潔方面尤為突岀。通過多年的市場實踐及等離子新技術(shù)研究和應(yīng)用,成功的推動了我國低溫等離子技術(shù)在等離子體塵埃、晶體、材料合成、微米納米技術(shù)、化工、環(huán)保、表面聚合、表面接枝、表面刻蝕、表面催化、金屬滲氮、化學(xué)合成和和氣、液、固態(tài)物質(zhì)的處理方面的發(fā)展。 憑借公司的強大研發(fā)實力,東信高科已成功申請多項技術(shù)。目前經(jīng)過近二十年的發(fā)展,公司產(chǎn)品先后經(jīng)過了四次升級換代,公司先后與富士康公司、美國AAC集團、愛普生電子、中國兵器集團、、中國、、東南大學(xué)光電實驗室、藍思科技、長方照明、歐菲光科技、伯恩光學(xué)、信利光電、德昌電機、深圳比亞迪股份、大疆創(chuàng)新、國顯科技、吉利汽車等世界企業(yè)和硏究單位達成戰(zhàn)略合作協(xié)議,成為上述企業(yè)和單位的設(shè)備供應(yīng)商。公司秉承誠信、拼搏、創(chuàng)新的精神理念,以人為本、高效服務(wù)的經(jīng)營理念,立足中國,面向,打造的等離子表面處理設(shè)備供應(yīng)商和服務(wù)商!
產(chǎn)品介紹真空等離子清洗機它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù),在一定真空負壓的狀態(tài)下,以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性的氣體等離子體,氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面,引起分子結(jié)構(gòu)的改變,從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗,在極短時間內(nèi)有機污染物就被外接真空泵抽走,其清洗能力可以達到分子級
陶瓷材料表面處理機 等離子清洗機 真空射頻等離子 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品介紹

真空等離子清洗機
它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù),在一定真空負壓的狀態(tài)下,以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性的氣體等離子體,氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面,引起分子結(jié)構(gòu)的改變,從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗,在極短時間內(nèi)有機污染物就被外接真空泵抽走,其清洗能力可以達到分子級。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì),所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗機既能加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性,也能對樣品進行消毒和殺菌。等離子清洗機現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
國產(chǎn)等離子清洗機是在國外等離子清洗機價格貴,難以推廣等缺點的基礎(chǔ)上,吸取了現(xiàn)有國內(nèi)外等離子清洗機的優(yōu)點,結(jié)合國內(nèi)用戶的使用需求,采用*科技手段開發(fā)出的新型系列等離子清洗機。該產(chǎn)品除擁有其它等離子清洗器的優(yōu)點外,更具有性能穩(wěn)定、性價比高、清洗效率高、操作簡便、使用成本極低、易于維護的優(yōu)點。產(chǎn)品能適應(yīng)不同用戶對設(shè)備的特殊要求。清洗艙的材料有耐熱玻璃和不銹鋼可選擇,不銹鋼類清洗艙有圓形和方形可選擇。。
功能:
對金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機污染物 (如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等)進行超清洗。
改變某些材料表面的性能。
使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加強這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。
清除金屬材料表面的氧化層。
對被清洗物進行消毒、殺菌。
優(yōu)點
具有性能穩(wěn)定、性價比高、操作簡便、使用成本極低、易于維護的特點。
對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和改性。
地清除樣品表面的有機污染物。
定時處理、快速處理、清洗效率高。
綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、對樣品和環(huán)境無二次污染。
在常溫條件下進行超清洗,對樣品非破壞性處理。
應(yīng)用領(lǐng)域
光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。
清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。
清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。
清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。

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