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廣電計量檢測集團股份有限公司

光學(xué)輪廓儀/3D顯微鏡 Zeta-20

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱上海納嘉儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號Zeta-20
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2022/9/7 16:02:24
  • 訪問次數(shù)478
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上海納嘉儀器有限公司專業(yè)致力于銷售各種科研測試類儀器與技術(shù)服務(wù),主要代理公司的微納米級表面測量產(chǎn)品,著力為各高校,研究所以及高科技公司等單位提供集產(chǎn)品、應(yīng)用和服務(wù)于一體的整體解決方案! 上海納嘉儀器有限公司主要代理多款微納米級別表面測量儀器:原子力顯微鏡&掃描探針顯微鏡,探針式輪廓儀(臺階儀,三維光學(xué)輪廓儀,色散共焦輪廓儀,光譜式橢偏儀,反射干涉儀以及各種儀器耗材等。 我們秉承“為合作伙伴創(chuàng)造價值”的核心價值觀,并以“誠實、寬容、創(chuàng)新、服務(wù)”為企業(yè)精神,通過自主創(chuàng)新和真誠合作為行業(yè)創(chuàng)造價值。 關(guān)于“為合作伙伴創(chuàng)造價值” 我們認為客戶、供應(yīng)商、公司股東、公司員工等一切和自身有合作關(guān)系的單位和個人都是自己的合作伙伴,并只有通過努力為合作伙伴創(chuàng)造價值,才能體現(xiàn)自身的價值并獲得發(fā)展和成功。 關(guān)于“誠實、寬容、創(chuàng)新、服務(wù)” 我們認為誠信是一切合作的基礎(chǔ),寬容是解決問題的前提,創(chuàng)新是發(fā)展事業(yè)的利器,服務(wù)是創(chuàng)造價值的根本。
光學(xué)輪廓儀/白光干涉儀/Zeta-20OpticalProfilerZeta-20是一款緊湊牢固的全集成光學(xué)輪廓顯微鏡,可以提供3D量測和成像功能
光學(xué)輪廓儀/3D顯微鏡 Zeta-20 產(chǎn)品信息

光學(xué)輪廓儀/白光干涉儀/Zeta-20 Optical Profiler

Zeta-20是一款緊湊牢固的全集成光學(xué)輪廓顯微鏡,可以提供3D量測和成像功能。該系統(tǒng)采用ZDot技術(shù),可同時采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無限遠焦點圖像。 Zeta-20具備Multi-Mode(多模式)光學(xué)系統(tǒng)、簡單易用的軟件、以及低擁有成本,適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。

 

產(chǎn)品描述

Zeta-20臺式光學(xué)輪廓儀是非接觸式3D表面形貌測量系統(tǒng)。 該系統(tǒng)采用ZDot技術(shù)和多模式光學(xué)系統(tǒng),可以對各種不同的樣品進行測量:透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理,以及納米至毫米級別的臺階高度。

Zeta-20的配置靈活并易于使用,并集合了六種不同的光學(xué)量測技術(shù)。ZDot測量模式可同時采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無限遠焦點圖像。其他3D測量技術(shù)包括白光干涉測量、Nomarski干涉對比顯微鏡和剪切干涉測量。 ZDot或集成寬帶反射儀都可以對薄膜厚度進行測量。 Zeta-20也是一種顯微鏡,可用于樣品復(fù)檢或自動缺陷檢測。 Zeta-20通過提供全面的臺階高度、粗糙度和薄膜厚度的測量以及缺陷檢測功能,適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。

 

 

主要功能

· 采用ZDot和Multi-Mode(多模式)光學(xué)器件的簡單易用的光學(xué)輪廓儀,具有廣泛的應(yīng)用

· 可用于樣品復(fù)檢或缺陷檢測的高質(zhì)量顯微鏡

· ZDot:同時采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color(真彩)無限遠焦點圖像

· ZXI:白光干涉測量技術(shù),適用于z向分辨率高的廣域測量

· ZIC:干涉對比度,適用于亞納米級別粗糙度的表面并提供其3D定量數(shù)據(jù)

· ZSI:剪切干涉測量技術(shù)提供z向高分辨率圖像

· ZFT:使用集成寬帶反射計測量膜厚度和反射率

· AOI:自動光學(xué)檢測,并對樣品上的缺陷進行量化

· 生產(chǎn)能力:通過測序和圖案識別實現(xiàn)全自動測量

 

 

主要應(yīng)用

· 臺階高度:納米到毫米級別的3D臺階高度

· 紋理:平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度

· 外形:3D翹曲和形狀

· 應(yīng)力:2D薄膜應(yīng)力

· 薄膜厚度:30nm到100μm透明薄膜厚度

· 缺陷檢測:捕獲大于1μm的缺陷

· 缺陷復(fù)檢:采用KLARF文件作為導(dǎo)航以測量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置

· 

工業(yè)應(yīng)用

· 太陽能:光伏太陽能電池

· 半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體

· 半導(dǎo)體 WLCSP(晶圓級芯片級封裝)

· 半導(dǎo)體FOWLP(扇出晶圓級封裝)

· PCB和柔性PCB

· MEMS(微機電系統(tǒng))

· 醫(yī)療設(shè)備和微流體設(shè)備

· 數(shù)據(jù)存儲

· 大學(xué),研究實驗室和研究所

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