上海物光顆粒圖像分析儀WKL-702

工作原理：WKL-702顆粒圖像分析儀將傳統的顯微測量方法與現代的圖像技術相結合，是一種采用圖像法進行顆粒形貌分析和粒度測量的顆粒分析系統，由光學顯微鏡、數字CCD攝像機和顆粒圖像處理分析軟件組成。該系統通過專用的數字攝像機將顯微鏡的顆粒圖像拍攝下來傳輸給電腦，通過專用的顆粒圖像處理分析軟件對圖像進行處理分析，具有直觀、形象、準確和測試范圍寬等特點。可以觀察顆粒形貌，也可得到粒度分布等分析結果。

技術參數
測量范圍：1～3000微米
光學放大倍數：1600倍
分辨率：0.1微米/像素
準確性誤差：< ±3%(國家標準物質)
重復性偏差：< ±3%(國家標準物質)

數據輸出：周長分布、面積分布、長徑分布、短徑分布、周長相當徑分布、面積相當徑分布、Feret徑分布、長短徑比、中間（D50）、有效粒徑（D10）、限定粒徑（D60、D30、D97）、個數長度平均徑、個數面積平均徑、個數體積平均徑、長度面積平均徑、長度體積平均徑、面積體積平均徑、不均勻系數、曲率系數。
配置參數（配置1國產顯微鏡）（配置2進口顯微鏡）
三目生物顯微鏡:平場目鏡：10×、16×
消色差物鏡：4×、10×、40×、100× （油）
總放大倍數：40×-1600×
攝像機：300萬像素數字CCD（標準C接頭）

應用范圍
適用于磨料、涂料、非金屬礦、化學試劑、粉塵、填料等各種粉末顆粒的粒度測量、形貌觀察和分析。
軟件功能及報告輸出格式
1、可以對圖像進行多項處理:如:影像增強、圖像疊加、局部提取、定向放大、對比度、亮度調節等幾十種功能。
2、具有圓度、曲線、周長、面積、直徑等幾十種幾何參數的基本測量。
3、可直接按顆粒粒徑的粒徑面積、形狀等多類參數，以線性或非線性統計方式繪出分布圖